[發(fā)明專利]低輻射玻璃無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710079626.6 | 申請(qǐng)日： | 2007-02-28 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101255018A | 公開(kāi)（公告）日： | 2008-09-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李德杰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 李德杰 |
| 主分類號(hào)： | C03C17/36 | 分類號(hào)： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 100084北京*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 輻射 玻璃 | ||
1.?低輻射玻璃，具有單銀薄膜結(jié)構(gòu)，其基本結(jié)構(gòu)中由下而上依次包括玻璃基底(10)、第1層介質(zhì)薄膜(11)、銀薄膜(12)、第2層介質(zhì)薄膜(13)，其特征在于：所述的介質(zhì)薄膜由氧化硅或氮氧化硅構(gòu)成。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射玻璃，其特征在于：在介質(zhì)薄膜和銀薄膜之間增加附著力強(qiáng)化薄膜，這層薄膜可以是單層的金屬鈦、鋯、鈮、鉭、鉻、鎳薄膜，也可以是這些金屬組成的復(fù)合多層膜，其厚度小于3納米。
3.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射玻璃，其特征在于：在介質(zhì)薄膜和銀薄膜之間增加附著力強(qiáng)化薄膜，這層薄膜包括金屬鈦、鋯、鈮、鉭、鉻、鎳、鋅、鋁、鎂、稀土元素的氧化物薄膜，其厚小于10納米。
4.?低輻射玻璃，具有雙銀薄膜結(jié)構(gòu)，其基本結(jié)構(gòu)中由下而上依次包括玻璃基底(30)、第一層介質(zhì)薄膜(31)、第1層銀薄膜(32)、第2層介質(zhì)薄膜(33)、第2層銀薄膜(34)、第3層介質(zhì)薄膜(35)，其特征在于：所述的介質(zhì)薄膜由氧化硅或氮氧化硅構(gòu)成。
5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的低輻射玻璃，其特征在于：在介質(zhì)薄膜和銀薄膜之間增加附著力強(qiáng)化薄膜，這層薄膜可以是單層的金屬鈦、鋯、鈮、鉭、鉻、鎳薄膜，也可以是這些金屬組成的復(fù)合多層膜，其厚度小于3納米。
6.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的低輻射玻璃，其特征在于：在介質(zhì)薄膜和銀薄膜之間增加附著力強(qiáng)化薄膜，這層薄膜包括金屬鈦、鋯、鈮、鉭、鉻、鎳、鋅、鋁、鎂、稀土元素的氧化物薄膜，其厚小于10納米。
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