[發明專利]鍍膜玻璃、制備該鍍膜玻璃的鍍膜系統及鍍膜方法

無效

• 申請號: 200710074325.4
• 申請日: 2007-05-09
• 公開（公告）號: CN101302079A
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發明（設計）人: 唐杰;黎武兵
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: C03C17/09
• 分類號: C03C17/09;C23C14/28;C23C14/32;C23C14/14
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1.一種鍍膜玻璃，包括一玻璃基體及一形成于玻璃基體上的圖案層，所述圖案層為一金屬膜層，其特征在于：該圖案層為一激光束穿過所述玻璃基體照射至一金屬靶材表面而形成。

2.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征在于：所述圖案層為銅、鋁、鈦、鐵、銀、鉻、錫任一種的金屬膜層或者其合金的金屬膜層。

3.一種制備鍍膜玻璃的鍍膜系統，用于玻璃基體的鍍膜，其特征在于：該鍍膜系統包括一激光源，用以發射一激光束；一金屬靶材，設置成使所述激光束入射至該金屬靶材的一表面上，該玻璃基體置于所述激光源與所述金屬靶材之間以接收所述激光束照射該金屬靶材的所述表面產生的的氣化的金屬等離子體。

4.如權利要求3所述的鍍膜玻璃的鍍膜系統，其特征在于：所述玻璃基體具有一第一表面，該第一表面貼合所述金屬靶材表面。

5.如權利要求4所述的鍍膜玻璃的鍍膜系統，其特征在于：所述玻璃基體的第一表面與金屬靶材的所述表面之間形成的間隙在一微米到五百微米之間。

6.如權利要求3所述的鍍膜玻璃的鍍膜系統，其特征在于：該鍍膜系統包括一激光源設備，所述激光源設備包括一提供所述激光源的激光源發射部件。

7.如權利要求6所述的鍍膜玻璃的鍍膜系統，其特征在于：所述激光源設備還包括一工作臺及一控制單元，所述工作臺承載所述金屬靶材及玻璃基體，所述控制單元控制所述光源發射部件的水平移動及激光束的發射周期、波長及強度。

8.如權利要求3所述的鍍膜玻璃的鍍膜系統，其特征在于：所述金屬靶材選自銅、鋁、鈦、鐵、銀、鉻、錫等多種金屬或者合金。

9.一種使用權利要求3的鍍膜系統制備鍍膜玻璃的鍍膜方法，用以對一玻璃基體的鍍膜，其特征在于，該鍍膜方法包括如下步驟：

導引一激光束穿過所述玻璃基體照射至金屬靶材的一表面；

所述金屬靶材的所述表面的金屬融化由固態轉變為氣態形成金屬等離子體；

所述金屬靶材的金屬等離子體揮發噴射至所述玻璃基體形成所金屬膜層。

10.如權利要求9所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：該鍍膜方法還包括一于導引激光束的同時控制所述激光束按一定軌跡運動，以便在玻璃基體上形成具有激光源移動軌跡的由金屬膜層形成的圖案層。

11.如權利要求9所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述玻璃基體具有一第一表面，該第一表面貼合所述金屬靶材表面，與金屬靶材表面之間形成的間隙在一微米到五百微米之間。

12.如權利要求9所述的鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述金屬靶材選自銅、鋁、鈦、鐵、銀、鉻、錫等多種金屬或者合金。