[發明專利]離子源組件有效
| 申請號： | 200710074322.0 | 申請日： | 2007-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN101303955A | 公開（公告）日： | 2008-11-12 |
| 發明（設計）人： | 肖林;楊遠超;潛力;劉亮;陳丕瑾;胡昭復;范守善 | 申請（專利權）人： | 清華大學;鴻富錦精密工業(深圳)有限公司 |
| 主分類號： | H01J27/02 | 分類號： | H01J27/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100084北京市海淀區清華*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子源 組件 | ||
【權利要求書】：
1.一種離子源組件，包括冷陰極、柵極和離子加速極，冷陰極、柵極和離子加速極相互絕緣地間隔設置，該柵極位于冷陰極與離子加速極之間，其特征在于：冷陰極與柵極之間的距離小于或等于2毫米，冷陰極包括基底及場發射薄膜，場發射薄膜設置于基底上且面向柵極，所述場發射薄膜含有碳納米管、低熔點玻璃及導電金屬微粒。
2.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，基底的底面為平面或曲面。
3.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，所述碳納米管于場發射薄膜中露頭。
4.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，所述導電金屬微粒的材料選自氧化銦錫或銀。
5.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，所述碳納米管的長度為5微米至15微米。
6.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，所述柵極與離子加速極為金屬環、金屬孔或金屬網的孔狀結構。
7.如權利要求6所述的離子源組件，其特征在于，所述柵極的透過率大于80％。
8.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，所述柵極與離子加速極之間的距離為大于或等于2毫米。
9.如權利要求1所述的離子源組件，其特征在于，所述離子源組件的工作壓強為小于10-3托。
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