[發(fā)明專利]等離子輔助化學氣相沉積裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710073407.7 | 申請日： | 2007-02-28 |
| 公開（公告）號： | CN101255553A | 公開（公告）日： | 2008-09-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 顏碩廷 | 申請（專利權）人： | 群康科技（深圳）有限公司;群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/513 | 分類號： | C23C16/513;C23C16/52 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109廣東省深圳市寶*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 輔助 化學 沉積 裝置 | ||
1.?一種等離子輔助化學氣相沉積裝置，其包括：一射頻電路、一第一電極板和一第二電極板，該第二電極板與該第一電極板相對設置，其特征在于：該第一電極板包括至少兩個子電極板，該射頻電路包括一射頻功率源和至少兩個可變電阻，該射頻功率源的一端與該第二電極板連接，該射頻功率源的另一端分別經(jīng)由該可變電阻連接到該至少兩個子電極板。
2.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該等離子輔助化學氣相沉積裝置進一步包括一沉積室，該第一電極板和該第二電極板置于該沉積室內(nèi)。
3.?如權利要求2所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該沉積室的腔壁的材料是鋁或玻璃。
4.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該兩個子電極板的形狀是矩形。
5.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該兩個子電極板的形狀是三角形。
6.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該兩個子電極板位于同一平面內(nèi)。
7.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該兩個子電極板之間的距離小于0.5cm。
8.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該射頻電路的頻率是13.56MHz。
9.?如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該第一電極板的子電極板的個數(shù)是9個。
10.?如權利要求9所述的等離子輔助化學氣相沉積裝置，其特征在于：該9個子電極板排列成3乘3矩陣形式。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
