[發明專利]模塊化曝光系統

有效

• 申請號: 200710073347.9
• 申請日: 2007-02-12
• 公開（公告）號: CN101244647A
• 公開（公告）日: 2008-08-20
• 發明（設計）人: 高云峰;孫海翔;蘇振慶
• 申請（專利權）人: 深圳市大族激光科技股份有限公司
• 主分類號: B41B21/16
• 分類號: B41B21/16;B41B19/00
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識產權事務所
• 代理人: 胡吉科;李慶波

1.?一種模塊化曝光系統，所述曝光系統包括：用于對具有光敏介質層的曝光基體進行曝光的曝光機構；用于使所述曝光基體與所述曝光機構進行相對運動的傳動機構，其特征在于：所述曝光機構包括多個曝光模塊，所述曝光系統進一步包括用于對所述曝光機構中的曝光模塊進行檢測的故障檢測機構以及用于根據所述故障檢測機構的檢測結果替換故障曝光模塊或所述故障曝光模塊的可替換元件的替換機構。

2.?如權利要求1所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光模塊包括可替換的光源器件。

3.?如權利要求2所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述光源器件為發光二極管、有機發光二極管或激光二極管。

4.?如權利要求3所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光模塊進一步包括用于導引所述光源器件的輸出光線的光纖。

5.?如權利要求4所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光模塊進一步包括位于所述光纖的輸出端用于聚集或擴散所述光纖的輸出光線的微透鏡。

6.?如權利要求1所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光模塊包括用于將所接收的光線選擇性照射到所述曝光基體上的光控制器件。

7.?如權利要求6所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述光控制器件是可替換的。

8.?如權利要求6或7所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述光控制器件為數字微鏡器件。

9.?如權利要求6所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述數字微鏡器件的多個微鏡單元對應于所述曝光基體上的一個象素。

10.?如權利要求1所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光機構中的曝光模塊的曝光輸出端錯位排列。

11.?如權利要求1所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光機構進一步包括將所述曝光模塊輸出的光線成像到所述曝光基體的成像透鏡。

12.?如權利要求1所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述故障檢測機構包括用于檢測所述曝光模塊的光信號的光電傳感器。

13.?如權利要求12所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述故障檢測機構進一步包括用于相對所述曝光機構傳動所述光電傳感器的傳感器傳動機構。

14.?如權利要求12所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述替換機構包括用于拾取所述故障曝光模塊或所述可替換元件的拾取機構。

15.?如權利要求14所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述替換機構進一步包括用于相對所述曝光機構傳動所述拾取機構的拾取傳動機構。

16.?如權利要求12所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光系統進一步包括備用模塊存放機構、故障模塊存放機構以及模塊進出替換窗口。

17.?如權利要求1所述的模塊化曝光系統，其特征在于：所述曝光機構包括用于消耗所述光敏介質層中的溶解氧的預曝光機構、用于進行曝光的主曝光機構以及用于調節所述預曝光機構與所述主曝光機構之間距離的調節機構。