[發(fā)明專利]退錫溶液的環(huán)保再生方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710072820.1 | 申請(qǐng)日： | 2007-01-08 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101220476A | 公開(kāi)（公告）日： | 2008-07-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉景亮;葉春漢 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 劉景亮 |
| 主分類號(hào)： | C23F1/46 | 分類號(hào)： | C23F1/46;C25C1/12 |
| 代理公司： | 深圳市睿智專利事務(wù)所 | 代理人： | 陳鴻蔭 |
| 地址： | 518040廣東省*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 溶液 環(huán)保 再生 方法 | ||
1.一種退錫溶液的環(huán)保再生方法，該退錫溶液包括硝酸、硝酸鹽和偏錫酸，其特征在于：包括以下步驟，
①在退錫溶液中加入濃度為0.2克/升至10克/升的陽(yáng)離子表面活性劑；
②在常溫下攪拌后靜置，所述偏錫酸聚集沉淀；
③將所述退錫溶液過(guò)濾，所述沉淀的偏錫酸被濾出；
④被過(guò)濾后的退錫溶液返回退錫工序中使用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退錫溶液的環(huán)保再生方法，其特征在于：所述陽(yáng)離子表面活性劑的濃度為0.5克/升至5克/升。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的退錫溶液的環(huán)保再生方法，其特征在于：如果被過(guò)濾后的退錫溶液中含有銅離子時(shí)，在步驟③之后還包括步驟：將所述被過(guò)濾后的退錫溶液電解，陽(yáng)極區(qū)采用稀硫酸溶液，濃度為5％～15％，陽(yáng)極電流密度為3～10安/平方分米；陰極區(qū)注入所述退錫溶液，陰極電流密度為3～10安/平方分米。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的退錫溶液的環(huán)保再生方法，其特征在于：所述陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)用隔膜隔開(kāi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的退錫溶液的環(huán)保再生方法，其特征在于：所述隔膜采用陽(yáng)離子隔膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的退錫溶液的環(huán)保再生方法，其特征在于：所述退錫溶液被電解至其中的銅離子濃度小于或等于0.2克/升時(shí)，返回至退錫工序中使用。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退錫溶液的環(huán)保再生方法，其特征在于：所述陽(yáng)離子表面活性劑采用十二烷基二甲基叔胺、十二烷基三甲基氯化銨或陽(yáng)離子型聚丙烯酰胺。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于劉景亮，未經(jīng)劉景亮許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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