[發(fā)明專利]一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710072641.8 | 申請日: | 2007-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN101164679A | 公開(公告)日: | 2008-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬軍;馬玉新;秦文躍 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | B01D71/34 | 分類號: | B01D71/34;B01D71/02;B01D69/12 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 韓末洙 |
| 地址: | 150001黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 聚偏氟 乙烯 納米 復(fù)合 低壓 超濾膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于按重量份數(shù)由20~150份的PVDF、0.1~20份的納米粉體、10~1000份的分散介質(zhì)、10~50份的有機(jī)添加劑和0.1~30份的無機(jī)添加劑制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于納米粉體為1~30nm的納米二氧化鈦、納米三氧化二鋁、納米四氧化三鐵、納米二氧化硅、納米二氧化鋯或納米碳酸鈣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于分散介質(zhì)為N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、丙酮中的一種或幾種混合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于有機(jī)添加劑為聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、聚乙二醇、陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、非離子型表面活性劑、丙酮、乙醇、甘油中的一種或幾種混合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于陽離子表面活性劑為C12~C18季銨鹽表面活性劑中的一種或幾種混合;陰離子表面活性劑為十二烷基硫酸鈉、十二烷基苯磺酸鈉中的一種或兩者的混合;非離子型表面活性劑為Triton?X-100、Tween?20~Tween?80或Span20~Span80中的一種或幾種混合。????
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于無機(jī)添加劑為氯化鋰、氯化銨、氯化鉀、硝酸鋰、硝酸銨、高氯酸鋰中的一種或幾種混合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜,其特征在于聚偏氟乙烯復(fù)合超低壓超濾膜的形式為平板膜、管式膜或中空纖維膜。
8.如權(quán)利要求1所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜制備方法,其特征在于該方法的步驟如下:一、按重量份數(shù)取下列原料:20~150份的PVDF、0.1~20份的納米粉體、10~1000份的分散介質(zhì)、10~50份的有機(jī)添加劑和0.1~30份的無機(jī)添加劑;二、將上述原料按納米粉體、無機(jī)添加劑、分散介質(zhì)、有機(jī)添加劑、PVDF的順序依次加入反應(yīng)釜的分散介質(zhì)中,在30~95℃條件下攪拌溶解3~48小時,然后靜置脫泡5~24小時,制成鑄膜液;三、在0~50℃條件下,采用中空纖維膜或平板膜紡絲機(jī)在凝固浴介質(zhì)中制膜;四、將制備的膜在保護(hù)液中浸泡2~48h,再在相對濕度為30~75%和室溫條件下干燥,制備相應(yīng)的膜組件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜制備方法,其特征在于在步驟三中所述的凝固浴介質(zhì)為水、乙醇、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、丙酮中的一種或幾種混合。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種聚偏氟乙烯納米復(fù)合超低壓超濾膜制備方法,其特征在于在步驟四中保護(hù)液為20~70%的甘油水溶液、1~15%的吐溫-20水溶液、1~15%的吐溫-40水溶液、1~15%的吐溫-60水溶液、1~15%的吐溫-80水溶液中的一種或幾種的混合。
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