[發明專利]高壓高比容陽極箔的腐蝕方法

無效

• 申請號: 200710067654.6
• 申請日: 2007-03-28
• 公開（公告）號: CN101206956A
• 公開（公告）日: 2008-06-25
• 發明（設計）人: 楊富國;翁德明;包大新
• 申請（專利權）人: 橫店集團東磁有限公司
• 主分類號: H01G9/055
• 分類號: H01G9/055;C25F3/04
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司
• 代理人: 尉偉敏

技術領域

本發明涉及一種鋁電解電容器用電極箔的處理方法，尤其涉及一種高壓鋁電解電容器用陽極箔的腐蝕方法；屬于鋁電解電容器制造領域。

背景技術

鋁電解電容器用陽極箔，為了擴大其有效表面積，對原鋁箔進行化學或電化學腐蝕，使其表面形成高密度均勻分布的且有一定深度的腐蝕坑以增大鋁箔的有效表面積。有關提高腐蝕擴面率方面的研究有許多報道，過去腐蝕工藝主要是腐蝕孔徑較細且分布不均勻，當形成氧化膜時，因氧化膜較厚而降低擴面效果；

近來中國專利申請(200410041286.4)63WV～100WV高比容陽極箔的腐蝕工藝：該腐蝕工藝將光鋁箔進行前處理，然后在濃度0.1～1wt％硫酸、5～20wt％鹽酸混合液中進行交流預腐蝕，接著在濃度10～25wt％鹽酸、0.1～1wt％硫酸及0.01～10ppm銅離子的混合溶液中浸泡，再在濃度0.1～1wt％硫酸、10～25wt％鹽酸、0.01～1wt％硫脲、0.01～1wt％草酸、0.2～5wt％三氯化鋁的混合溶液中進行交流腐蝕，最后在濃度1～10wt％的硝酸水溶液中浸泡。該腐蝕工藝較過去的腐蝕工藝可以提高鋁箔的擴面率，但是該腐蝕工藝只能針對63WV～100WV的低壓陽極箔進行腐蝕，而對于超過100WV的高壓陽極箔的腐蝕效果較差。采用交流腐蝕，由于腐蝕孔徑較小，高壓形成時易堵塞。

發明內容

本發明針對現有陽極箔的腐蝕方法只能對低壓的陽極箔進行腐蝕而無法對高壓的陽極箔進行腐蝕所存在的缺陷提供一種高壓高比容陽極箔的腐蝕方法；通過該方法不僅解決了高壓(520V、610V)陽極箔的腐蝕問題，而且陽極箔在獲得高比容前提下，具有較好的機械強度。

本發明的上述技術問題是通過以下技術方案得以實施的：一種高壓高比容陽極箔的腐蝕方法，該方法包括以下步驟：

A、前處理：將鋁箔放在50～70℃，濃度為0.1～5wt％的磷酸水溶液中浸泡1～5分鐘；

B、一級直流電解腐蝕：將上述經過前處理的鋁箔放入濃度為0.5～5wt％硫酸和濃度為1～10wt％鹽酸的混合溶液中進行一級直流電解腐蝕；

C、二級直流電解腐蝕：將上述經過一級直流電解腐蝕的鋁箔放入濃度為5～15wt％鹽酸、0.01～0.1wt％磷酸和0.01～0.1wt％聚乙二醇的混合溶液中進行二級直流電解腐蝕；

D、三級直流電解腐蝕：將上述經過二級直流電解腐蝕的鋁箔放入濃度為5～15wt％的鹽酸、0.01～0.1wt％磷酸及0.01～0.1wt％聚乙二醇的混合溶液中進行三級直流電解腐蝕；

E、后處理：將上述經過三級直流電解腐蝕的鋁箔在溫度30℃～80℃、濃度0.5～5wt％的硝酸水溶液中浸泡2～6分鐘后即可。

本發明的前處理主要目的是除去鋁箔表面的油污、雜質，使箔表面均勻，有利于一級直流電解腐蝕時形成均勻分布的初始蝕孔，磷酸液的濃度過低，達不到清洗效果，高則會減薄厚度，達到最佳效果時，磷酸的濃度為0.1～5wt％。

而前處理溫度低于50℃，去油效果差，超過70℃表面會全面溶解而導致減薄，最佳溫度范圍為50～70℃。

前處理時間少于1分鐘，達不到處理效果，若超過5分鐘，同樣會減薄.前處理達到最佳效果時間為1～3分鐘。

本發明的一級直流電解腐蝕主要目的是在鋁箔表面引發初始蝕孔，并且使蝕孔孔徑的大小合理、分布均勻。采用直流電源比采用交流電源腐蝕所形成的孔徑較大，蝕孔在高壓形成時不易堵塞。

在本發明的一級直流電解腐蝕中，鹽酸濃度低于1wt％，則腐蝕作用弱，發孔點少；超過10wt％，鋁箔表面發孔點細而密，所以鹽酸濃度的最佳范圍為1～10wt％；而硫酸濃度低于0.5wt％，鋁箔表面不成膜，蝕孔不能引發；高于5wt％，表面成膜太厚，蝕孔也不能引發。因此硫酸濃度的最佳范圍為0.5～5wt％。

在上述的一級直流電解腐蝕中，電流密度為15～30A/dm²，電量為1500～2000C/dm²；所述的混合溶液的溫度為60℃～80℃。