[發明專利]以光敏活性物為模板的介孔晶體二氧化鈦的制備方法有效
| 申請號： | 200710065747.5 | 申請日： | 2007-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN101024169A | 公開（公告）日： | 2007-08-29 |
| 發明（設計）人： | 王家強;歐恩才;王劍飛;閔良;李聰 | 申請（專利權）人： | 云南大學 |
| 主分類號： | B01J21/06 | 分類號： | B01J21/06 |
| 代理公司： | 昆明科陽知識產權代理事務所 | 代理人： | 李行健 |
| 地址： | 650091云南省昆明市五*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光敏 活性 模板 晶體 氧化 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
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