[發明專利]氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法無效
| 申請號: | 200710064385.8 | 申請日: | 2007-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN101267088A | 公開(公告)日: | 2008-09-17 |
| 發明(設計)人: | 張書明;劉宗順;楊輝 | 申請(專利權)人: | 中國科學院半導體研究所 |
| 主分類號: | H01S5/024 | 分類號: | H01S5/024 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 100083北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氮化 激光器 倒裝 用熱沉 制作方法 | ||
1.?一種氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
步驟1:取一絕緣襯底;
步驟2:在該絕緣襯底上的一側利用化學腐蝕或干法刻蝕的方法將部分區域刻蝕到一深度形成臺面結構;
步驟3:用光刻的方法在該絕緣襯底上和形成的臺面結構上形成激光器倒裝用的電極圖形,并用蒸發的方法及剝離技術在電極圖形區域形成金屬層;
步驟4:在金屬層的區域接著蒸鍍金屬焊料層,這層金屬焊料層不是完全覆蓋下面的金屬層,而是留出部分區域用于激光器管芯倒裝后電極引線的連接;
步驟5:將樣片分割成單個氮化鎵基激光器倒裝用的熱沉。
2.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的絕緣襯底為硅、碳化硅、氮化鋁、金剛石的具有高熱導率的絕緣材料。
3.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的在該絕緣襯底上通過刻蝕形成臺面結構,刻蝕深度為0.5微米到3微米之間,最佳厚度是等于激光器的P型電極的表面到N型歐姆接觸電極表面的垂直距離。
4.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的金屬層為鈦、鋁、鎳、金、鉑、銀、鉻的材料,或及其組合,無論怎樣組合形成的金屬層的最上層為金金屬層。
5.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的金屬層的厚度為0.5到10微米之間。
6.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的金屬焊料層為銦、錫、金錫合金、銦錫合金、金銦合金,其合金的各種金屬組分為0-100%,當各種金屬組分為0和100%時,則為單質金屬層。
7.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的金屬焊料層的厚度為0.2微米到20微米之間,較佳為10微米。
8.?根據權利要求1所述的氮化鎵基激光器倒裝用熱沉的制作方法,其特征在于,其中所述的分割成單個氮化鎵基激光器倒裝用的熱沉的方法是采用金剛石刀具劃片方法或者激光劃片方法。
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