[發明專利]一種光電開關動態調整硅片偏差的方法及裝置有效
| 申請號: | 200710063221.3 | 申請日: | 2007-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN101217127A | 公開(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發明(設計)人: | 李永軍 | 申請(專利權)人: | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 | 代理人: | 練光東 |
| 地址: | 100016*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光電開關 動態 調整 硅片 偏差 方法 裝置 | ||
1.一種光電開關動態控制硅片的方法,用于機械手從傳輸腔室運送硅片到反應腔室過程中調整控制硅片偏差,其特征在于該方法包括如下步驟:
步驟1:在傳輸腔室和反應腔室連接處偏離中心的位置設置一光電開關傳感器;
步驟2:在機械手把硅片從傳輸腔室運送到反應腔室的過程中,光電開關傳感器判斷出硅片傳送時間,并根據機械手的平均運動速度得出運行的距離;
步驟3:通過運行距離得出機械手上硅片的中心坐標,用此值與沒有偏差時硅片中心坐標值進行比較,所得的差值即所需要的偏差調整值;
步驟4:根據所要調整的偏差值,機械手執行下一步動作,在放片前作相應的偏差校正。
2.如權利要求1所述的光電開關動態控制硅片的方法,其特征在于硅片在機械手上傳送時,會遮擋位于傳輸腔室和反應腔室連接處偏離中心的位置的光電開關傳感器的發射光線,光電開關傳感器隨即判定硅片存在并且正在傳送,遮擋結束時表示傳送停止,從開始遮擋到結束遮擋的這個期間即為硅片傳送時間。
3.如權利要求1所述的光電開關動態控制硅片的方法,其特征在于所述機械手調整偏差范圍在2mm到6mm之間。
4.如權利要求1~3中任一項所述的光電開關動態控制硅片的方法,其特征在于機械手內部裝有觸發器和運動控制卡,當光電開關傳感器的信號一觸發,機械手內部的編碼器便開始記數,到傳感器信號觸發完畢,通過機械手的內部運動控制卡的電機參數可以計算出機械手這段時間的運動距離。
5.一種光電開關動態控制硅片的裝置,用于將硅片從傳輸腔室運送到反應腔室過程中調整硅片的偏差,該裝置包括光電開關傳感器(1)和機械手,所述機械手用于把硅片從傳輸腔室運送到反應腔室,其特征在于所述光電開關傳感器(1)位于傳輸腔室和反應腔室連接處偏離中心的位置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





