[發(fā)明專利]一種等離子刻蝕設(shè)備的刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)裝置與方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710062687.1 | 申請(qǐng)日: | 2007-01-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101221891A | 公開(公告)日: | 2008-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京凱特來(lái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 鄭立明;姚巍 |
| 地址: | 100016北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 等離子 刻蝕 設(shè)備 終點(diǎn) 檢測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種等離子刻蝕設(shè)備的刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)裝置,其特征在于,包括,
光譜儀,將檢測(cè)到的等離子刻蝕設(shè)備內(nèi)部的光信號(hào),轉(zhuǎn)換為模擬電信號(hào)輸出;
模擬放大濾波電路,將模擬電信號(hào)中的高頻噪聲干擾信號(hào)濾除,輸出消除高頻噪聲干擾信號(hào)的模擬電信號(hào);
模擬/數(shù)字轉(zhuǎn)換模塊,將消除高頻噪聲干擾信號(hào)的模擬電信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號(hào)輸出至數(shù)字信號(hào)處理模塊;
數(shù)字信號(hào)處理模塊,提高輸入的數(shù)字電信號(hào)的信噪比、去除系統(tǒng)固有噪音、并進(jìn)行濾波處理去除低頻與隨機(jī)噪聲,得到終點(diǎn)控制參數(shù),并根據(jù)所述終點(diǎn)控制參數(shù)確定等離子刻蝕設(shè)備是否達(dá)到刻蝕終點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子刻蝕設(shè)備的刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)裝置,其特征在于,所述的裝置還包括,
數(shù)字/模擬轉(zhuǎn)換模塊,將數(shù)字信號(hào)處理模塊輸出的終點(diǎn)控制參數(shù)轉(zhuǎn)換為模擬控制信號(hào);
光譜儀控制電路,根據(jù)模擬控制信號(hào)通過限幅電路對(duì)光譜儀的輸出進(jìn)行調(diào)整,調(diào)節(jié)光譜信號(hào)的范圍,達(dá)到各個(gè)腔室的狀態(tài)匹配。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子刻蝕設(shè)備的刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)裝置,其特征在于,所述的光譜儀為光電倍增管PMT式光譜儀,PMT接收等離子刻蝕設(shè)備內(nèi)等離子體發(fā)射的光譜,并將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成模擬電信號(hào)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子刻蝕設(shè)備的刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)裝置,其特征在于,所述的數(shù)字信號(hào)處理模塊包括,
積分測(cè)量模塊,多次采集輸入的數(shù)字電信號(hào),進(jìn)行累加并取平均值作為一個(gè)采樣周期的采樣結(jié)果,提高數(shù)字電信號(hào)的信噪比;
系統(tǒng)固有噪音去除模塊,在等離子刻蝕設(shè)備不進(jìn)行工藝過程時(shí)檢測(cè)等離子刻蝕設(shè)備內(nèi)部的光信號(hào),轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)作為系統(tǒng)的固有噪音,并從輸入數(shù)字信號(hào)處理模塊的數(shù)字信號(hào)中扣除系統(tǒng)固有噪音,以去除系統(tǒng)固有噪音;
數(shù)字濾波模塊,采用中位值平均濾波法去除輸入的數(shù)字信號(hào)中低頻噪聲與隨機(jī)噪聲;終點(diǎn)控制模塊,根據(jù)經(jīng)過積分測(cè)量方法、去除系統(tǒng)固有噪音與數(shù)字濾波后的數(shù)字信號(hào),通過終點(diǎn)控制處理得到終點(diǎn)控制信號(hào),用于確定等離子刻蝕設(shè)備是否達(dá)到刻蝕終點(diǎn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司,未經(jīng)北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710062687.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





