[發(fā)明專利]一種在紫銅表面制備納米厚度的薄膜表面的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710060653.9 | 申請日: | 2007-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN101215698A | 公開(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉明言;王琳琳;王燕;朱博 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | C23C22/34 | 分類號: | C23C22/34;C23C22/77;C23C22/78;C23C22/82 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 | 代理人: | 王麗英 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫銅 表面 制備 納米 厚度 薄膜 方法 | ||
1.一種在紫銅表面制備納米厚度的薄膜表面的方法,其特征在于它包括以下步驟:
(a)對紫銅基片進行預處理,使其表面的粗糙度Ra控制在1μm以內并且用肉眼看不到任何沉積物;
(b)將化學純的氟鈦酸銨、分析純的硼酸分別配制成均一的溶液,并過濾雜質得到澄清的溶液,將兩種溶液按摩爾比1∶1-1∶5混合均勻,得到的混合液中氟鈦酸銨和硼酸的濃度分別為0.01-0.5mol/L和0.01-0.05mol/L;
(c)將制備的沉積液放在水浴中加熱至15-90℃,沉積液溫度恒定以后,將紫銅基片垂直放入溶液,使基片懸浮于溶液中,開始制備薄膜直至達到預定的厚度;
(d)沉積完畢后,將基片取出,用蒸餾水多次沖洗表面以去除表面殘留物;
(e)將基片在室溫下自然干燥10-48h,然后放入加熱裝置中加熱,加熱速率為0.5-10℃/min,當溫度升高到100-550℃時,保持恒溫0.1-5小時,關閉加熱裝置,自然冷卻后得到均一致密的氧化鈦薄膜表面;
所述的步驟(a)中的預處理步驟包括打磨、拋光和清洗步驟;所述的打磨步驟為利用200-500#的金剛砂對紫銅基底進行打磨,待整個紫銅的表面均被黑色的金剛砂覆蓋后,再采用500-600#的金剛砂繼續(xù)對上述基底進行打磨,直到500-600#的金剛砂取代原來平鋪在基底上的200-500#的金剛砂顆粒均勻的平鋪在紫銅基底上為止;所述的拋光步驟為首先使用1-5μm金剛砂研磨膏進行機械拋光,直到基底上黑色的金剛砂全部去除以后,再使用0.5-1μm金剛砂研磨膏繼續(xù)拋光,直到表面用肉眼看不到劃痕為止;所述的清洗步驟包括先用質量百分比為1-5%的稀鹽酸浸泡基片5-30分鐘,除去表面的氧化物;然后將基片浸入質量百分比為5-20%的氫氧化鈉溶液,同樣保持5-30分鐘,以除去部分油脂;將基片取出,在其上放適量的洗潔精,用脫脂棉進行反復擦洗,擦洗完畢后將基片先用蒸餾水沖洗干凈,再將此基片分別放入質量百分比大于99.7%的無水乙醇和質量百分比大于99.5%的丙酮中進行超聲清洗約5-30分鐘后取出,最后,用蒸餾水超聲清洗基片5-30分鐘,以徹底除去表面殘存的無水乙醇和丙酮,用電吹風吹干,置于密閉容器中保存。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種在紫銅表面制備納米厚度的薄膜表面的方法,其特征在于:所述的步驟(b)中的化學純的氟鈦酸銨溶液、分析純的硼酸溶液摩爾比為1∶2-1∶4。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種在紫銅表面制備納米厚度的薄膜表面的方法,其特征在于:所述的步驟(c)中的制備的沉積液放在水浴中加熱至20-50℃。
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