[發(fā)明專利]光彈調(diào)制器位相延遲在線修正方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710059902.2 | 申請日: | 2007-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN101201467A | 公開(公告)日: | 2008-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡春光;李艷寧;胡小唐;孫立東;比德·切彭菲爾德 | 申請(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01;G01N21/00 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 | 代理人: | 劉國威 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 調(diào)制器 位相 延遲 在線 修正 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光譜儀信號調(diào)制技術(shù)和誤差修正技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種光彈調(diào)制器位相延遲在線修正方法。
技術(shù)背景
橢圓偏振光測量技術(shù)和反射差分測量技術(shù)在半導(dǎo)體加工和薄膜分析方面,特別是膜厚測量、多層結(jié)構(gòu)分析、折射率與介電常數(shù)檢測和薄膜生產(chǎn)在線監(jiān)測、半導(dǎo)體工藝在線檢測等環(huán)節(jié),扮演著重要的角色。人們通常通過分析測試樣品在不同光學(xué)波段的光學(xué)反應(yīng),即光譜信號,來判斷和確定樣品的屬性。因此,橢偏光譜術(shù)和反射差分光譜術(shù)應(yīng)運而生,它們經(jīng)過一次測量(即多個波長的光信號同時測量)或者一系列測量(即每次測量一個波長的光信號,通過掃描方式完成光譜測量),獲得光譜信息。
為有效地將較小的測試信號從大噪聲中提取出來,提高測量精度,采用光彈調(diào)制器的位相調(diào)制技術(shù)被應(yīng)用在信號的調(diào)制中,然而光彈晶體產(chǎn)生的位相延遲的幅值隨光學(xué)波長發(fā)生變化,即在相同的條件下,不同的光學(xué)波長穿過光彈晶體時形成的位相延遲的大小不相同。若多個波長同時進(jìn)行測量,需要知道每個波長下光彈晶體作用的位相延遲值。
目前的方法有兩種,一是位相延遲值固定為某個值,對于不同的波長,通過改變光彈調(diào)制器的工作參數(shù)(控制電壓)來保證位相延遲的不變,這種方法需要提前標(biāo)定每個波長下光彈調(diào)制器的工作參數(shù),而且使用時一次只能測量一個波長,通過掃描波長獲得光譜信息,因此不能滿足快速測量的要求,也無法實現(xiàn)多波長并行測量;另外一種則根據(jù)位相延遲與波長的關(guān)系對進(jìn)行軟件修正,稱為波長修正法,即光彈調(diào)制器固定工作參數(shù),在假定光彈晶體雙折射率不變的條件下,利用波長長度與位相延遲成反比的關(guān)系,在軟件中計算出每個波長對應(yīng)的位相延遲值,從而達(dá)到對信號的修正。但該方法僅適用于可見光和近紅外光區(qū)域的位相延遲修正,在紫外區(qū)域,修正誤差較大,不能達(dá)到測量精度的要求,因而制約了上述技術(shù)在該區(qū)域以及包含紫外區(qū)域的全光譜范圍的測量。
發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于:提供一種在線修正光彈調(diào)制器位相延遲的方法,用于解決多波長并行測量時,因光彈調(diào)制器位相延遲隨波長的變化,而產(chǎn)生的計算誤差。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
光彈調(diào)制器位相延遲在線修正方法由電壓修正法和基于壓光系數(shù)的波長修正法兩種修正措施組成。其中,電壓修正法包括下列步驟:
1.根據(jù)參考波長λ0,查詢光彈調(diào)制器針對參考相位A0的出廠標(biāo)定數(shù)據(jù),獲得光彈調(diào)制器實際的控制電壓V0;
2.根據(jù)需要測量的波長λ1,查詢光彈調(diào)制器針對參考相位A0的出廠標(biāo)定數(shù)據(jù),獲得該情況下光彈調(diào)制器應(yīng)當(dāng)采用的控制電壓V1;
3.根據(jù)下式求解測量波長λ1在控制電壓V0下的位相延遲A1:
光彈調(diào)制器位相延遲在線修正方法,還可以是基于壓光系數(shù)的波長修正法:
1.根據(jù)參考波長λ0,查詢光彈調(diào)制器針對參考相位A0的出廠標(biāo)定數(shù)據(jù),獲得光彈調(diào)制器實際的控制電壓V0,查詢光學(xué)手冊,獲得光彈晶體在該波長下的壓光系數(shù)C0;
2.根據(jù)需要測量的波長λ1,查詢光彈調(diào)制器針對參考相位A0的出廠標(biāo)定數(shù)據(jù),獲得該情況下光彈調(diào)制器應(yīng)當(dāng)采用的控制電壓V1,查詢光學(xué)手冊,獲得光彈晶體在該波長下的壓光系數(shù)C1;
3.根據(jù)下式求解測量波長λ1在控制電壓V0下的位相延遲A1:
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