[發(fā)明專利]一種非球面光柵復(fù)制的新方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710056042.7 | 申請日: | 2007-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN101126825A | 公開(公告)日: | 2008-02-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李文昊;巴音賀希格;齊向東;唐玉國 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18;B29D11/00 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 | 代理人: | 趙炳仁 |
| 地址: | 130033吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 球面 光柵 復(fù)制 新方法 | ||
1.一種非球面光柵復(fù)制的新方法,其特征在于:第一步、母版非球面光柵的選擇;任何一次的復(fù)制都要選擇光柵技術(shù)參數(shù)滿足設(shè)計(jì)、使用要求的母版非球面光柵,因?yàn)橛脕韽?fù)制的母版非球面光柵是決定復(fù)制后的非球面光柵的性能和質(zhì)量的基本依據(jù);母版非球面光柵的表面質(zhì)量要好,表面的任何疵病都會(huì)在復(fù)制后的非球面光柵上體現(xiàn)出來;第二步、復(fù)制基底的選擇,包括一次復(fù)制基底和二次復(fù)制基底的選擇;母版非球而光柵是凹面的,一次復(fù)制基底應(yīng)該選擇凸球面,并且一次復(fù)制基底的凸球面與母版非球面光柵的凹凸面相對匹配時(shí),兩個(gè)面形四周接觸,中間部分是分離的,這樣可使光柵與基底之間的環(huán)氧樹脂膠能留存住;根據(jù)非球面方程式y(tǒng)2+z2=2Rx-(1-e2)x2,求解出凹凸相匹配的球面曲率半徑。式中,R表示頂點(diǎn)曲率半徑,e2表示二次常數(shù);根據(jù)母版非球面光柵基底與一次復(fù)制基底相互接觸后的峰-谷值為最小的原則,通過非球面方程式數(shù)值算例精確求解出與母版非球面凹面光柵的最接近比較球面的凸球面半徑,這也就是一次復(fù)制基底的半徑;選擇二次復(fù)制基底時(shí),將母版非球面光柵看成凸面,二次復(fù)制基底應(yīng)該選擇凹面的,并且在母版凸非球面光柵的面形與二次復(fù)制基底凹球面相對匹配時(shí),兩個(gè)面是四周接觸,中間部分是分離的,這樣有利于兩鏡面中間的環(huán)氧樹脂膠不向外流,根據(jù)母版非球面光柵基底與二次復(fù)制基底相互接觸后的峰-谷值為最小的原則,通過非球面方程式數(shù)值算例精確求解出母版非球面光柵的最接近比較球面的凹球面半徑,這也就是二次復(fù)制基底的半徑;第三步、一次復(fù)制版的制作,首先將母版非球面光柵(1)放入真空鍍膜機(jī)中分別鍍分離油膜(2)和鋁膜(3),取出后將環(huán)氧樹脂膠涂在母版非球面光柵(1)的鋁膜(3)上,形成環(huán)氧樹脂膠層(4),接著將一次復(fù)制基底(5)與帶有分離油膜(2)、鋁膜(3)和環(huán)氧樹脂膠(4)的母版非球面光柵(1)粘結(jié),然后放入干燥箱中固化,最后分離和清潔處理,即可得到面形為凸球面的一次復(fù)制版(6);第四步、二次復(fù)制版的制作,將一次復(fù)制版(6)放入真空鍍膜機(jī)中分別鍍分離油膜(7)、鋁膜(8),取出后將環(huán)氧樹脂膠(9)涂在一次復(fù)制版(6)的鋁膜(8)上,接著將二次復(fù)制基底(10)與帶有分離油膜(7)、鋁膜(8)和環(huán)氧樹脂膠(9)的一次復(fù)制版(6)粘結(jié),然后放入烘箱中固化,最后分離和清潔處理,即可得到二次復(fù)制版(11),該版是與母版非球面光柵(1)面形相同的復(fù)制出的非球面光柵。
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