[發明專利]微弧氧化沉積復合陶瓷膜的方法

無效

• 申請號: 200710053786.3
• 申請日: 2007-11-05
• 公開（公告）號: CN101230474A
• 公開（公告）日: 2008-07-30
• 發明（設計）人: 邵志松;趙晴;周雅;劉炳根
• 申請（專利權）人: 南昌航空大學
• 主分類號: C25D11/02
• 分類號: C25D11/02;C25D9/06;C25D15/00
• 代理公司: 南昌洪達專利事務所
• 代理人: 劉凌峰

1.一種微弧氧化沉積復合陶瓷膜的方法，其特征是方法步驟為：

(1)配制微弧氧化復合電解液：根據各種閥門金屬的性質配制出能夠進行微弧氧化的電解液，然后在這些電解液中添加入各種不溶性的物質微粒，微粒粉末粒徑小于5um，含量控制在2-100g/L；

(2)微弧氧化復合沉積的實現：工件作為陽極，陰極用不銹鋼板等不溶金屬板，陰極和陽極面積比1∶1-5，采用直流或直流脈沖通電方式，通過調整電流密度控制氧化膜表面孔徑大小，要求孔徑大小不小于所加微粒的粒徑，根據電解液體系和氧化時間不一樣，終止電壓在150-800V之間，在氧化時，要求對電解液不斷攪拌，懸浮的顆粒會吸附在膜層表面的微孔，然后被周圍的微孔噴發物掩埋而沉積在氧化膜中。

2.根據權利要求1所述的微弧氧化沉積復合陶瓷膜的方法，其特征是不溶性的物質微粒有金剛石粉末、二氧化鈦粉末，三氧化鉻粉末，碳化硅粉末等。