[發明專利]一種制備納米粉末和薄膜材料的裝置無效
| 申請號: | 200710053669.7 | 申請日: | 2007-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN101147976A | 公開(公告)日: | 2008-03-26 |
| 發明(設計)人: | 楊君友;段興凱;朱文;肖承京;李凱;李良彪 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | B22F9/14 | 分類號: | B22F9/14;C23C14/22 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 納米 粉末 薄膜 材料 裝置 | ||
1.一種制備納米粉末和沉積薄膜的裝置,其特征在于:坩堝(13)位于真空腔體(17)的底部,襯底裝置由電動機(1),襯底支架(2)和襯底(3)組成,襯底支架位于真空腔體(17)的內腔頂部,電動機(1)與襯底支架(2)連接,襯底(3)安裝在襯底支架(1)的下面;粉末收集器的收集口與真空腔體(17)相通,送粉器安裝在真空腔體(17)的內壁上,送粉器的出粉口位于坩堝(13)的上方,
真空腔體(17)上開有進水口(9)、出水口(10)和保護氣體進口(11);高真空機組(12)與真空腔體(17)相連,高頻高壓發生器(18)串聯在硅整流器(16)和鎢極氬弧焊槍(15)之間,硅整流器(16)的正、負極分別與位于真空腔體(17)內的鎢極氬弧焊槍(15)和坩堝(13)連接,鎢極氬弧焊槍(15)與坩堝(13)的距離為3-20mm之間。
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