[發(fā)明專利]一種機(jī)械疊層AlSb/CIS薄膜太陽(yáng)電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710051030.5 | 申請(qǐng)日: | 2007-12-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101217167A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李衛(wèi);馮良桓;呂彬;蔡亞平;張靜全;黎兵;武莉莉;雷智;孫震;謝晗科 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L31/042 | 分類號(hào): | H01L31/042 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 610064四*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 機(jī)械 alsb cis 薄膜 太陽(yáng)電池 | ||
1.一種薄膜太陽(yáng)電池,其結(jié)構(gòu)為AlSb/CIS,其特征是:AlSb作為吸收層的頂電池直接疊合在CIS作為吸收層的底電池之上,形成雙結(jié)四端的機(jī)械疊層薄膜太陽(yáng)電池。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AlSb作為吸收層的頂電池,其特征是:在玻璃襯底和吸收層AlSb間順序添加ZnO:Al導(dǎo)電層、ZnO高阻層和CdS緩沖層,并在吸收層AlSb后增加碳納米管涂層作透明背接觸層,最后制作Ni/Al柵線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的CIS作為吸收層的底電池,其特征是:在玻璃襯底和吸收層CIS間沉積Mo作背電極,隨后在吸收層CIS上順序制備CdS緩沖層、ZnO高阻層、ZnO:Al導(dǎo)電層以及制作與AlSb頂電池相同形狀和大小的Ni/Al柵線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AlSb作為吸收層的頂電池直接疊合在CIS作為吸收層的底電池之上,其特征是:頂電池和底電池疊合時(shí),二者的Ni/Al柵線要對(duì)齊。
5.根據(jù)權(quán)利要求2和3所述的CdS緩沖層,其特征是:可以為納米結(jié)構(gòu),也可以為非納米結(jié)構(gòu)。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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