[發(fā)明專利]制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710048001.3 | 申請日： | 2007-11-08 |
| 公開（公告）號： | CN101182198A | 公開（公告）日： | 2008-05-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉延輝;馮海斌;周細(xì)應(yīng) | 申請（專利權(quán)）人： | 上海工程技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號： | C04B35/46 | 分類號： | C04B35/46;C04B35/50;C04B35/14;C04B35/622 |
| 代理公司： | 上海三方專利事務(wù)所 | 代理人： | 吳干權(quán) |
| 地址： | 201620上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 制取 透明 功能 薄膜 三元 金屬 氧化物 陶瓷 制備 工藝 | ||
1.一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：由重量百分比為10％～50％的氧化鈦，0％～60％的氧化鈰，0％-55％氧化硅的三種金屬氧化物粉體做為原料粉，并在原料粉中加入占原料粉總重量1％～5％的粘結(jié)劑，混合均勻后，用冷壓機壓制成濺射靶材坯體，然后在常壓、常氣氛下將坯體高溫?zé)Y(jié)成陶瓷靶材。
2.如權(quán)利要求1所述的一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：所述的氧化硅、氧化鈦、氧化鈰為分析純粉體，采用超聲波振蕩和機械研磨工藝將三者均勻混合。
3.如權(quán)利要求1所述的一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：所述的粘結(jié)劑采用蒸餾水或丙酮或無水乙醇，或者上述三種的混合物。
4.如權(quán)利要求1所述的一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：所述的冷壓機壓制壓力為5-300噸.
5.如權(quán)利要求1所述的一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：所述的高溫?zé)Y(jié)中的高溫為1000℃-1600℃。
6.如權(quán)利要求1所述的一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：燒結(jié)成的陶瓷靶材直徑為60mm，厚度≤6mm。
7.如權(quán)利要求1所述的一種制取透明功能薄膜的三元金屬氧化物陶瓷靶材的制備工藝，其特征在于：所述的制備工藝燒結(jié)成的陶瓷靶材應(yīng)用于射頻磁控濺射領(lǐng)域制備透明氧化物陶瓷薄膜。
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