[發明專利]一種爐管干式清洗方法有效
| 申請號: | 200710046836.5 | 申請日: | 2007-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN101406891A | 公開(公告)日: | 2009-04-15 |
| 發明(設計)人: | 任瑞龍;何華忠;劉曉林;俞小豐 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | B08B9/027 | 分類號: | B08B9/027;B08B7/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人: | 屈 蘅;李時云 |
| 地址: | 2012*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 爐管 清洗 方法 | ||
1.一種爐管干式清洗方法,所述爐管被用于執行薄膜沉積制程,所述的薄膜沉積是摻雜砷的多晶硅薄膜沉積,其特征在于,所述方法包括下列步驟:
(1)在620~525攝氏度的第一設定溫度下對爐管進行抽真空;
(2)在保持爐管真空的情況下將爐管內的溫度降低至第二設定溫度,該第二設定溫度的范圍是400±5攝氏度;
(3)向爐管內通入反應氣體。
2.根據權利要求1所述的爐管干式清洗方法,其特征在于,該第一設定溫度為525攝氏度。
3.根據權利要求1所述的爐管干式清洗方法,其特征在于,該第二設定溫度為400攝氏度。
4.根據權利要求1所述的爐管干式清洗方法,其特征在于,步驟(2)中,以1.5攝氏度/分鐘的速率進行降溫。
5.根據權利要求1所述的爐管干式清洗方法,其特征在于,所述的反應氣體是三氟化氯。
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