[發(fā)明專利]光刻膠供應(yīng)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710046491.3
• 申請日: 2007-09-26
• 公開（公告）號: CN101398626A
• 公開（公告）日: 2009-04-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王俊;唐建峰;程亮;劉智波
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 逯長明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光刻制造工藝中用于提供光刻膠的光刻膠供應(yīng)裝置。

背景技術(shù)

光刻工藝是目前半導(dǎo)體制造工藝中最重要的技術(shù)之一，通過光刻就能夠?qū)崿F(xiàn)掩膜圖形向?qū)嶋H器件圖形的轉(zhuǎn)移，因此光刻的質(zhì)量直接左右著最終形成的器件的質(zhì)量。

目前的光刻工藝基本包括下列步驟：涂膠、曝光顯影和蝕刻。涂膠工藝的目的是在晶片表面建立薄而均勻的光刻膠膜。目前常用的涂膠工藝是采用動態(tài)噴涂的方法，先將晶圓置于承載臺上，然后承載臺以低速旋轉(zhuǎn)，此時光刻膠噴嘴將光刻膠噴涂于晶圓表面。低速旋轉(zhuǎn)的作用是幫助光刻膠最初的擴(kuò)散。用這種方法可以用較少量的光刻膠達(dá)到均勻的光刻膠膜。光刻膠擴(kuò)展開之后，承載臺加速至高速，甩開光刻膠使光刻膠擴(kuò)展，來得到最終的光刻膠膜。所述的光刻膠通常為光敏性物質(zhì)，并會對特定波長范圍的光感光。當(dāng)將光刻膠曝光于特定波長的光時，光刻膠將會感光而改變其結(jié)構(gòu)性質(zhì)，通常光刻膠會感光可溶或感光不可溶。通過將不同的光刻膠和曝光光源結(jié)合，就能夠在光刻膠上定義出器件圖形。

通常為了保證光刻工藝的質(zhì)量，都會有一套用于供應(yīng)光刻膠的光刻膠供應(yīng)裝置。所述光刻膠供應(yīng)裝置例如圖1所示，通常包括用于存儲光刻膠的存儲容器1，用于從存儲容器1底部將光刻膠抽取至噴嘴2的泵3，所述泵3和存儲容器1之間以及泵3和噴嘴2之間均通過傳輸管道(圖1中未標(biāo)識)相連。其中泵3中還包括對泵3從存儲容器1中抽取的光刻膠進(jìn)行過濾以去除雜質(zhì)的過濾器4。在例如專利號為02158677.2的中國專利中還能夠找到更多關(guān)于光刻膠供應(yīng)裝置的信息。

繼續(xù)參照圖1所示，在光刻膠初始供應(yīng)時，光刻膠供應(yīng)裝置的傳輸管道中可能會殘留有空氣，而空氣殘留于光刻膠中會影響光刻工藝，例如可能造成光刻膠涂覆不均勻，而使得最終形成的器件圖形扭曲。因而，現(xiàn)有的光刻膠供應(yīng)裝置在存儲容器1和泵3之間還依次設(shè)置了用于暫存光刻膠的第一暫存容器5和第二暫存容器6，所述第一暫存容器5和第二暫存容器6的容量都小于存儲容器1的容量。所述第一暫存容器5和第二暫存容器6的頂部還分別設(shè)有氣體釋出口(圖中未標(biāo)識)，當(dāng)光刻膠由于泵3的抽取而從存儲容器1經(jīng)由第一暫存容器5和第二暫存容器6向噴嘴2傳輸時，所述傳輸管道內(nèi)的空氣就可以通過氣體釋出口排出，從而減小對于光刻工藝的影響。

并且，為了防止當(dāng)存儲容器1中的光刻膠被抽空時，泵3仍繼續(xù)工作，在第一暫存容器5的光刻膠入口和出口分別設(shè)置了感應(yīng)器51和感應(yīng)器52，在第二暫存容器6的外壁處設(shè)置了感應(yīng)器61，通過所述感應(yīng)器分別對連接第一暫存容器5的傳輸管道以及第二暫存容器6進(jìn)行監(jiān)控。當(dāng)所述感應(yīng)器發(fā)現(xiàn)傳輸管道或所述的暫存容器被抽空時，就會報警而使光刻膠供應(yīng)裝置停止。

然而，由于泵3在抽取光刻膠的時候并不是連續(xù)抽取的，因此當(dāng)泵3停止抽取時，光刻膠在傳輸管道中就可能產(chǎn)生斷層，從而出現(xiàn)氣泡，并會引發(fā)誤報警。這樣的誤報警不僅會嚴(yán)重影響光刻工藝的效率，并且還可能對光刻工藝的質(zhì)量產(chǎn)生影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種光刻膠供應(yīng)裝置，來解決現(xiàn)有技術(shù)光刻膠供應(yīng)裝置誤報警影響光刻工藝的效率和質(zhì)量的問題。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種光刻膠供應(yīng)裝置，包括，用于存儲光刻膠的存儲容器；連通所述存儲容器，用于暫存存儲容器輸出的光刻膠的第一暫存容器；連通所述第一暫存容器，用于暫存第一暫存容器輸出的光刻膠的第二暫存容器；以及用于探測第一暫存容器中光刻膠狀態(tài)的第一感應(yīng)器，其中，所述第一感應(yīng)器的探測位置高于從所述第二暫存容器向所述第一暫存容器回流的光刻膠所能到達(dá)的最高位置。

可選的，所述第一感應(yīng)器的探測位置位于第一暫存容器的光刻膠出口。

可選的，所述第一感應(yīng)器的探測位置位于第一暫存容器的外壁上。

可選的，所述存儲容器的光刻膠出口的對應(yīng)位置連接有氣體管道。

可選的，所述第一暫存容器的光刻膠出口的對應(yīng)位置設(shè)有氣體釋出口。

可選的，所述第二暫存容器的光刻膠出口的對應(yīng)位置設(shè)有氣體釋出口。

可選的，還包括用于探測第二暫存容器中光刻膠狀態(tài)的第二感應(yīng)器。

可選的，可選的，所述第二感應(yīng)器的探測位置位于第二暫存容器的光刻膠出口。

可選的，所述第二感應(yīng)器的探測位置位于第二暫存容器的外壁上。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述所公開的光刻膠供應(yīng)裝置具有以下優(yōu)點(diǎn)：上述所公開的光刻膠供應(yīng)裝置中用于探測第一暫存容器中光刻膠狀態(tài)的第一感應(yīng)器的探測位置，高于從所述第二暫存容器向所述第一暫存容器回流的光刻膠所能到達(dá)的最高位置，因此就避免了由于氣泡隨光刻膠回流至感應(yīng)器所探測的位置而引起感應(yīng)器的誤報警，從而避免了影響光刻工藝的效率和質(zhì)量。

附圖說明