[發(fā)明專利]漸變反射率鏡的鍍膜裝置及鍍膜方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710046248.1 | 申請日: | 2007-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN101122640A | 公開(公告)日: | 2008-02-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂國暖;易葵;曾維強;王善成 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所 |
| 主分類號: | G02B1/10 | 分類號: | G02B1/10 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 漸變 反射率 鍍膜 裝置 方法 | ||
1.一種用于電子槍蒸發(fā)鍍膜機的鍍制漸變反射率鏡的鍍膜裝置,包括安裝架(11),其特征在于該安裝架(11)與一水平基板(15)固定相連,在該基板(15)之上通過支撐桿(18)連接一水平電機安裝板(6),該電機安裝板(6)上設(shè)有第一步進電機(9)和第二步進電機(14),所述的第一步進電機(9)和第二步進電機(14)通過第一彈性聯(lián)軸器(28)和第二彈性聯(lián)軸器(27)分別與擋板安裝盤旋轉(zhuǎn)軸(16)和基片旋轉(zhuǎn)軸(17)連接,所述的基片旋轉(zhuǎn)軸(17)和擋板安裝盤旋轉(zhuǎn)軸(16)通過軸承分別安裝在所述的基板(15)上,所述的基片旋轉(zhuǎn)軸(17)和擋板安裝盤旋轉(zhuǎn)軸(16)的下端分別與夾具支架(7)和擋板安裝盤(13)連接,所述的夾具支架(7)與供待鍍膜的基片放置的基片夾具(12)連接,所述的擋板安裝盤(13)設(shè)置了尺寸相同的第一圓孔(20)和第二圓孔(21),第一圓孔(20)用于安裝鍍制變化厚度層的擋板(26),第二圓孔(21)不安裝擋板,所述的擋板安裝盤(13)的邊緣上還設(shè)置了第一小圓孔(22)和第二小圓孔(23),所述的第一小圓孔(22)與第一圓孔(20)的圓心在該擋板安裝盤(13)的同一直徑上,第二小圓孔(23)的圓心和第二圓孔(21)的圓心在該擋板安裝盤(13)的另一直徑上,該兩直徑相互垂直;
所述的基板(15)的下方的一側(cè)固定一側(cè)板(10),所述的側(cè)板(10)的內(nèi)側(cè)安裝一光電開關(guān)支架(8),所述的光電開關(guān)支架(8)上安裝一凹槽式光電開關(guān)(19),當(dāng)所述的擋板安裝盤(13)被第一步進電機(9)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)時,所述的第一小圓孔(22)或第二小圓孔(23)旋轉(zhuǎn)至所述的光電開關(guān)(19)的凹槽時,所述的光電開關(guān)(19)將通過所述的第一小圓孔(22)或第二小圓孔(23)發(fā)出定位信號,使所述的擋板安裝盤(13)定位不動;
所述的鍍制變化厚度層的擋板(26)的通孔具有特定的形狀,由所鍍制的漸變反射率鏡的設(shè)計決定;
所述的第二步進電機(14)和第一步進電機(9)通過真空室內(nèi)的信號接口與室外的步進電機驅(qū)動器(24)連接,該步進電機驅(qū)動器(24)與控制器(25)相連,所述的光電開關(guān)(19)與控制器(25)相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的漸變反射率鏡的鍍膜裝置,其特征在于所述的安裝架(11)的結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有夾具安裝架(3)相同。
3.一種利用權(quán)利要求1所述的漸變反射率鏡的鍍膜裝置進行鍍膜的方法,其特征在于包括下列步驟:
①利用計算機程序設(shè)計并制作所述的鍍制變化厚度層的擋板(26);
②將所述的擋板(26)放置在所述的擋板安裝盤(13)的第一圓孔(20)中,所述的待鍍膜基片置于所述的基片夾具(12)里,將所述的漸變反射率鏡的鍍膜裝置的安裝架(11)安裝在所述的電子槍蒸發(fā)鍍膜機的真空室的夾具安裝架(3)的位置;
③啟動所述的步進電機驅(qū)動器(24)和控制器(25)的電源,通過控制器(25)控制所述的步進電機驅(qū)動器(24),驅(qū)動第一步進電機(9),使擋板安裝盤(13)的第二圓孔(21)轉(zhuǎn)至所述的待鍍膜基片的正下方,這時所述的光電開關(guān)(19)通過所述的第二小圓孔(23)發(fā)出定位信號,令所述的擋板安裝盤(13)定位不動,關(guān)閉真空室門并開始抽真空;
④在鍍膜開始后,通過控制器(25)控制所述的步進電機驅(qū)動器(24)驅(qū)動第二步進電機(14)勻速轉(zhuǎn)動,帶動基片夾具(12)里的待鍍膜基片作勻速轉(zhuǎn)動,按常規(guī)方法首先鍍制所需的均勻厚度膜層;
⑤鍍制中間非均勻厚度膜層:所述的控制器(25)通過步進電機驅(qū)動器(24)驅(qū)動第一步進電機(9)帶動擋板安裝盤(13)沿順時針方向緩慢旋轉(zhuǎn),直至所述的擋板(26)旋轉(zhuǎn)至基片夾具(12)讓所述的待鍍膜基片正下方,這時第一小圓孔(22)恰好通過光電開關(guān)(19)的凹槽,光電開關(guān)(19)發(fā)出信號并令擋板安裝盤(13)停止轉(zhuǎn)動并鎖定,在通過控制器(25)驅(qū)動第二步進電機(14)勻速轉(zhuǎn)動,帶動基片夾具(12)讓所述的待鍍膜基片作勻速轉(zhuǎn)動,鍍制非均勻厚度膜層;
⑥鍍制其余的均勻厚度膜層:所述的控制器(25)控制步進電機驅(qū)動器(24)驅(qū)動第一步進電機(9)帶動擋板安裝盤(13)沿逆時針方向緩慢旋轉(zhuǎn),直至第二圓孔(21)轉(zhuǎn)至所述的待鍍膜基片正下方,這時光電開關(guān)(19)發(fā)出信號令擋板安裝盤(13)鎖定,再按常規(guī)方法鍍制其余的所需的均勻厚度膜層;
⑦完成基片鍍膜后,按常規(guī)從真空室中取出并處理已鍍膜基片。
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