[發明專利]精密平衡減振硅片臺運動系統

有效

• 申請號: 200710045582.5
• 申請日: 2007-09-04
• 公開（公告）號: CN101165595A
• 公開（公告）日: 2008-04-23
• 發明（設計）人: 袁志揚
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/68
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅

1.一種精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于，包括：

承載基板；

基臺：固定在所述承載基板上，且與所述承載基板之間具有容置空間；

硅片臺運動裝置：固定在所述基臺的上側，設有硅片承載臺及與所述硅片承載臺相連接且能根據預先規劃的運行行程使所述硅片承載臺產生相應方向位移的第一受控運動單元；

反向平衡運動裝置：包括與承載臺及其被承載物體的質量特性完全相同的模擬件，與該模擬件相連接且與第一受控運動單元相似的第二受控運動單元，以及鑲嵌在基臺內的動量輪運動單元，其中，所述模擬件被夾持在所述承載基板及所述基臺之間；

第一控制單元，用于提供預先規劃的運行行程以控制所述第一受控運動單元；以及

第二控制單元，用于向第一控制單元提供運動控制功能，并同時控制第二受控運動單元和動量輪運動單元。

2.如權利要求1所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于，還包括：在所述基臺下側表面開設多個槽體；以及分別內嵌在所述多個槽體的多個動量輪運動單元，每一動量輪運動單元設有旋轉電機、支撐所述旋轉電機的氣浮軸承及由所述氣浮軸承支撐且與所述旋轉電機相連接的輪體。

3.如權利要求1所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：所述第一受控運動單元包括：固定在所述基臺上側且平行設置的兩第一導軌、分別設置在兩第一導軌上的兩第一滑塊、連接兩第一滑塊且設有所述硅片承載臺的第一橫梁、分別設置在兩第一導軌且與所述兩第一滑塊相連接的兩第一直線電機、設置在第一橫梁上且與所述硅片承載臺相連接的第二直線電機、分別設置在所述兩第一導軌上用于量測所述兩第一滑塊在相應第一導軌上的位置數據的兩第一光柵尺、與所述第一控制單元相連接且將所述兩第一光柵尺測出的位置數據進行編碼后傳輸的兩第一編碼器、設在所述第一橫梁上用于量測所述硅片承載臺位置數據的第二光柵尺、以及與所述第一控制單元相連接且將所述第二光柵尺測出的位置數據進行編碼后傳輸的第二編碼器，所述硅片承載臺設置有與所述基臺相連接的第一氣浮。

4.如權利要求3所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：在所述兩第一導軌的端側及所述第一橫梁的端側分別設有第一防撞塊。

5.如權利要求3所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：在所述兩第一導軌的邊側及所述第一橫梁的邊側分別設有容置線路、氣浮氣管及冷卻水管路的第一電纜管、及承載所述第一電纜管的第一支架。

6.如權利要求1所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：所述第二受控運動單元包括：固定在所述基臺下側且平行設置的兩第二導軌、分別設置在兩第二導軌上的兩第二滑塊、連接兩第二滑塊且設有所述模擬件的第二橫梁、分別設置在兩第二導軌且與所述兩第二滑塊相連接的兩第三直線電機、設置在所述第二橫梁上且與所述模擬件相連接的第四直線電機、分別設置在所述兩第二導軌上用于量測所述兩第二滑塊在相應第二導軌上的位置數據的兩第三光柵尺、與所述第二控制單元相連接且將所述兩第三光柵尺測出的位置數據進行編碼后傳輸的兩第三編碼器、設在所述第二橫梁上用于量測所述模擬臺位置數據的第四光柵尺、以及與所述第二控制單元相連接且將所述第四光柵尺測出的位置數據進行編碼后傳輸的第四編碼器，所述模擬件兩側分別設置有與所述基臺及所述承載基板相連接的第二氣浮。

7.如權利要求6所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：在所述兩第二導軌的端側及所述第二橫梁的端側分別設有第二防撞塊。

8.如權利要求6所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：在所述兩第二導軌的邊側及所述第二橫梁的邊側分別設有容置線路、氣浮氣管及冷卻水管路的第二電纜管、及承載所述第二電纜管的第二支架。

9.如權利要求1所述的精密平衡減振硅片臺運動系統，其特征在于：所述基臺為大理石基臺。