[發明專利]一種常壓等離子帶鋼鍍膜工藝

無效

• 申請號: 200710045285.0
• 申請日: 2007-08-27
• 公開（公告）號: CN101376968A
• 公開（公告）日: 2009-03-04
• 發明（設計）人: 楊立紅;傅建欽;張健;楊曉萍
• 申請（專利權）人: 寶山鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/52;H05H1/24
• 代理公司: 上海開祺知識產權代理有限公司
• 代理人: 竺明

1.一種常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，基板卷開卷后進入常壓等離子鍍膜單 元；采用兩個電極，其中高壓電極位于鋼板的上方，用阻擋層覆蓋； 運行的基板位于高壓電極下方，基板接地或位于接地電極的上方，通 過絕緣物質阻隔；通過載氣通入有機前驅體，氣體流量大于0.01sccm； 以及反應性氣體，流量大于1sccm；在兩個電極間加上交流電，交流 電頻率在200Hz-20kHz之間；介電層或者絕緣層阻擋了電流，產生介 電放電；介質阻擋放電產生等離子，基板在通過等離子區域時，進行 鍍膜，基板運行速率在2～200米/分之間；所述的介質阻擋放電為處于 輝光放電、湯森放電或低溫等離子三種狀態。

2.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，所述的基 板為冷軋鋼卷、鍍鋅板卷、不銹鋼卷或有機預涂鋼卷。

3.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，采用多組 電極，每組兩個電極。

4.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，電極采用 的交流電壓的頻率在200Hz到20kHz范圍內可調。

5.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，所述的阻 擋層選用石英或Al₂O₃或陶瓷材料。

6.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，具特征是，所述的介 質阻擋放電保持在湯森放電范圍內。

7.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，所述的反 應性氣體采用氦氣、氮氣、氬氣或氧氣。

8.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，所述的有 機前驅體為HMDSO、HMDS、SiH₄中的一種。

9.如權利要求1或8所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，所述 的有機前驅體通過預熱，經載氣運送到鍍膜系統，發生反應。

10.如權利要求1所述的常壓等離子帶鋼鍍膜工藝，其特征是，鍍膜后， 進行加熱或冷卻。