[發(fā)明專利]一種光刻膠清洗劑

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710045210.2
• 申請日: 2007-08-23
• 公開（公告）號: CN101373340A
• 公開（公告）日: 2009-02-25
• 發(fā)明（設計）人: 史永濤;彭洪修;曹惠英;劉兵;曾浩
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42;C11D7/34;C11D7/06;C11D7/26
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所
• 代理人: 李佳銘

1.一種光刻膠清洗劑，其特征在于，含有：季銨氫氧化物、聚羧酸類緩蝕劑、 芳基醇、二甲基亞砜和水，其中，所述的芳基醇選自苯甲醇、苯乙醇、二苯 甲醇、二苯乙醇、三苯甲醇、鄰氨基苯甲醇、對氨基苯甲醇、鄰氨基苯乙醇、 對氨基苯乙醇、甲基苯甲醇、甲基苯乙醇、二甲基苯甲醇、二甲基苯乙醇、 間甲氧基苯甲醇、對甲氧基苯甲醇、間甲氧基苯乙醇、對甲氧基苯乙醇、芐 氧基苯甲醇和二芐氧基苯甲醇中的一種或多種， 其中，所述的芳基醇的含量為質量百分比1～50％。

2.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物的含 量為質量百分比0.1～10％。

3.如權利要求2所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物的含 量為質量百分比0.5～5％。

4.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物選自 四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨和芐 基三甲基氫氧化銨中的一種或多種。

5.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的芳基醇的含量為質 量百分比5～30％。

6.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑的 含量為質量百分比0.01～5％。

7.如權利要求6所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑的 含量為質量百分比0.05～2.5％。

8.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑選 自聚丙烯酸及其共聚物、聚甲基丙烯酸及其共聚物、聚丙烯酸醇胺鹽、聚甲 基丙烯酸醇胺鹽、聚氧乙烯改性聚丙烯酸及其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基 丙烯酸及其衍生物、聚環(huán)氧琥珀酸和聚天冬氨酸中的一種或多種。

9.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的水的含量為質量百 分比0.1～40％。

10.如權利要求9所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的水的含量為質量百 分比0.5～20％。

11.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含量 為質量百分比1～98.79％。

12.如權利要求11所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含 量為質量百分比50～90％。

13.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的光刻膠清洗劑還含 有極性有機共溶劑、表面活性劑和除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑中的一種或 多種。

14.如權利要求13所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機共溶劑 的含量為質量百分比0～50％；所述的表面活性劑的含量為質量百分比0～5％； 所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑的含量為質量百分比0～10.0％。

15.如權利要求14所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機共溶劑 的含量為質量百分比5～30％；所述的表面活性劑的含量為質量百分比 0.05～3％；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑的含量為質量百分比0.1～5％。

16.如權利要求15所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機共溶劑 選自亞砜、砜、咪唑烷酮、醇胺和烷基二醇單烷基醚中的一種或多種；其中 烷基二醇單烷基醚中烷基二醇的碳原子數(shù)目為3～18。

17.如權利要求16所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的亞砜為二乙基亞 砜和/或甲乙基亞砜；所述的砜為甲基砜、乙基砜和環(huán)丁砜中的一種或多種； 所述的咪唑烷酮為2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮和1，3-二乙基-2-咪唑 烷酮中的一種或多種；所述的醇胺類化合物為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇 胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺和羥乙基乙二胺中的一種或多 種；所述的烷基二醇單烷基醚為二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二 醇單丁醚、丙二醇單丁醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚和二丙二醇單 丁醚中的一種或多種。