[發明專利]透射對準標記組合及光刻裝置的對準方法

有效

• 申請號: 200710045044.6
• 申請日: 2007-08-20
• 公開（公告）號: CN101135859A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 李煥煬;陳勇輝;宋海軍;周暢
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅

1.一種透射對準標記組合，包括位于掩模上的掩模對準標記，以及位于工件臺上與掩模對準標記配合使用的工件臺基準板標記，其特征在于：所述的掩模對準標記由至少兩個第一分支圖形和至少一個第二分支圖形組合而成，所述的工件臺基準板標記由四個第一分支圖形等距離分布在一個第二分支圖形四周而成；所述的第一分支圖形由三個柵形標記結構組成，所述的第二分支圖形為方形透射孔。

2.如權利要求1所述的透射對準標記組合，其特征在于：所述的第一分支圖形由第一、第二和第三柵形標記結構沿與光柵垂直方向并排構成，其中第一和第三柵形標記結構完全相同，分布在第二柵形標記結構兩側。

3.如權利要求2所述的透射對準標記組合，其特征在于：第二柵形標記結構的長度是第一和第三柵形標記結構的1.2倍至100倍，或者第一和第三柵形標記結構的長度是第二柵形標記結構的1.2倍至100倍。

4.如權利要求3所述的透射對準標記組合，其特征在于：所述第一、第二和第三柵形標記結構中的柵被細分為三個細小柵。

5.如權利要求4所述的透射對準標記組合，其特征在于：所述工件臺基準板標記中，沿第二分支圖形對邊分布的兩個第一分支圖形呈180°對稱，且沿第二分支圖形對邊分布的一對第一分支圖形與另一對第一分支圖形互為旋轉90°替換。

6.如權利要求5所述的透射對準標記組合，其特征在于，第一分支圖形在掩模對準標記上的排列方式滿足：其經投射所形成的空間像可以全部與工件臺基準板標記上的四個第一分支圖形一一對應；也可以選取部分第一分支圖形進行組合，典型地，選擇沿第二分支圖形對邊或鄰邊的第一分支圖形進行組合，形成掩模上的掩模對準標記；還可以選取沿第二分支圖形對邊或鄰邊或全部的第一分支圖形進行相互組合，形成掩模上的掩模對準標記。

7.如權利要求6所述的透射對準標記組合，其特征在于：當所述的掩模對準標記包含兩個以上第二分支圖形時，相鄰的第二分支圖形之間不包含第一分支圖形。

8.如權利要求7所述的透射對準標記組合，其特征在于：工件臺基準板標記中對應多個第一分支圖形的所有柵形標記結構的占空比同掩模對準標記中對應所有柵形標記結構的柵占空比相同。

9.如權利要求7所述的透射對準標記組合，其特征在于：工件臺基準板標記和掩模對準標記中第一分支圖形和第二分支圖形的所有柵形標記結構內部的細小柵的占空比根據對準信號調制和測量要求確定。