[發明專利]一種優化掃描曝光的方法有效
| 申請號： | 200710045038.0 | 申請日： | 2007-08-20 |
| 公開（公告）號： | CN101373335A | 公開（公告）日： | 2009-02-25 |
| 發明（設計）人： | 李碧峰;方向平;沈華峰;朱禕明 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 2012*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 優化 掃描 曝光 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種優化掃描曝光的方法，其特征在于：進行掃描曝光時，在不改變曝光裝置掃描方向控制模塊的條件下，通過調整速度控制參數，微調晶圓和光罩之間的相對移動速度，使曝光裝置掃描速度低于其標準掃描速度，且高于曝光裝置飽和掃描速度。
2.如權利要求1所述的優化掃描曝光的方法，其特征在于：降低曝光掃描速度直至曝光圖案滿足生產良品率的要求。
3.如權利要求1所述的優化掃描曝光的方法，其特征在于：所曝光的對象是掃描式曝光裝置分辨率所能達到的極限特征尺寸或小于其極限特征尺寸的圖案。
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