[發明專利]用于光刻裝置的掩模對準標記及對準方法

有效

• 申請號: 200710045037.6
• 申請日: 2007-08-20
• 公開（公告）號: CN101140422A
• 公開（公告）日: 2008-03-12
• 發明（設計）人: 李煥煬;陳勇輝;宋海軍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅

技術領域

本發明涉及光刻裝置的對準技術，尤其涉及用于光刻裝置的掩模對準標記及采用該對準標記的對準方法。

背景技術

在工業裝置中，由于高精度和高產能的需要，分布著大量高速實時信號采樣、數據采集、信號實時處理系統。其中信號實時處理系統需要采用有效的信息處理模型和方法達到高精密、高效率的要求。有該需求的裝置包括：集成電路制造光刻裝置、液晶面板光刻裝置、光掩模刻印裝置、MEMS/MOEMS光刻裝置、先進封裝光刻裝置、印刷電路板光刻裝置、印刷電路板加工裝置等。

在以前的上述裝置中，為了實現掩模圖形對工件臺基準板上對準標記的對準，并生成高精度的對準掃描信息，需要有能夠產生高精度對準掃描信息的掩模對準標記。

現有的對準標記，要么捕獲能力較差，需要在掩模上增加輔助的掩模對準標記，并增加較多的對準掃描方式，進行逐級捕獲，從而降低了對準效率；要么單個對準標記的信號對比度不高，用虛擬的數字處理方法雖然能夠提高信號對比度，但同時也同步放大了噪聲水平，并不能從物理上提高信噪比，從而限制了對準重復精度的提高。

發明內容

本發明所解決的技術問題在于提供一種提高對準掃描的捕獲能力和對準信息的對比度的掩模對準標記，以及用所提供的掩模對準標記進行掩模對準掃描，實現提高掩模對準標記空間像的捕獲能力、對準精密度和對準效率的方法。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種掩模對準標記，分別置于掩模臺的掩模上和工件臺的基準板上，用于提供掩模光學對準，其中，所述的掩模對準標記包括第一、第二和第三對準標記分支，其中，第一和第三對準標記分支由三個光柵標記結構組成，第二對準標記分支呈方形透射孔狀分布，且第一和第三對準標記分支關于第二對準標記分支互為旋轉90°替換。

進一步地，所述的第一和第三對準標記分支由第一、第二和第三光柵標記結構沿與光柵垂直方向并排構成，其中第一和第三光柵標記結構完全相同，分布在第二光柵標記結構兩側。

進一步地，第二光柵標記結構的長度是第一和第三光柵標記結構的1.2倍至100倍，或者第一和第三光柵標記結構的長度是第二光柵標記結構的1.2倍至100倍，且所述第一、第二和第三光柵標記結構中的柵被細分為三個細小光柵。

進一步地，工件臺基準板上的掩模對準標記中對應第一、第三對準標記分支的所有光柵標記結構的占空比同掩模上的掩模對準標記中對應所有光柵標記結構的占空比不相等，而工件臺基準板上和掩模上的掩模對準標記中第一、第三對準標記分支的所有光柵標記結構內部的細小光柵的占空比根據對準信號調制與測量要求確定。