[發(fā)明專利]掩膜圖案校正方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710044546.7
• 申請(qǐng)日: 2007-08-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101359169A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-02-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉慶煒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/14
• 分類號(hào): G03F1/14
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種掩膜圖案的校正方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一掩膜圖案，所述掩膜圖案由兩個(gè)相同寬度的區(qū)域和中間區(qū)域組成；

對(duì)掩膜圖案進(jìn)行光學(xué)臨近修正形成修正圖案；

計(jì)算光學(xué)臨近修正后的修正圖案邊緣的焦深；

根據(jù)計(jì)算的焦深值，對(duì)散焦中心范圍進(jìn)行放大，取圖案邊緣中最大的散焦中心或最大的焦深值，從而對(duì)圖案邊緣放大重新定義形成最終的修正圖案。

2.如權(quán)利要求1所述的掩膜圖案的校正方法，其特征在于：所述的掩膜圖案由兩個(gè)相同寬度的區(qū)域和中間區(qū)域組成。

3.如權(quán)利要求1所述的掩膜圖案的校正方法，其特征在于：根據(jù)所述的修正圖案邊緣的焦深計(jì)算值，取其中最大的焦深計(jì)算值對(duì)圖案邊緣放大重新定義。

4.如權(quán)利要求1所述的掩膜圖案的校正方法，其特征在于：所所述的最終的修正圖案由兩個(gè)相同寬度的區(qū)域和中間區(qū)域組成，且所述最終的修正圖案關(guān)于所述中間區(qū)域?qū)ΨQ。