[發明專利]一種用于光刻設備的對準系統

有效

• 申請號: 200710044152.1
• 申請日: 2007-07-24
• 公開（公告）號: CN101114135A
• 公開（公告）日: 2008-01-30
• 發明（設計）人: 韋學志;李運鋒;徐榮偉;周暢;陳勇輝
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種用于光刻設備的對準系統，其特征在于，所述對準系統包括：

對準輻射源；

對準標記；

對準標記信號檢測器；和

信號處理器；

其中，所述對準輻射源發出校準光束；所述校準光束照射所述對準標記得到對準標記信號；所述對準標記信號射入所述對準標記信號檢測器；所述對準標記信號檢測器與信號處理器相連接。

2.根據權利要求1所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準標記包含有至少三段光柵結構。

3.根據權利要求2所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準標記包含的相位光柵有三個不同周期。

4.根據權利要求3所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準標記信號為所述校準光束照射所述對準標記后發出的一級衍射信號。

5.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述的光刻設備包括基底和基底臺，所述對準標記可以位于基底上，也可以位于基底臺上。

6.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述透鏡組可以是單獨設計的采用雙遠心結構的4f透鏡組，也可以是光刻機的投影物鏡。

7.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述透鏡組包括前組透鏡，所述對準標記位于所述透鏡組的前組透鏡焦平面上。

8.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準系統采用統一的工作時序控制機制。

9.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準標記可以是成直線排列的三個不同周期的相位光柵。

10.根據權利要求9所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述成直線排列的三個不同周期的相位光柵的條紋垂直于所述三個光柵所成直線，位于中部的光柵的周期可以小于位于兩邊的光柵的周期。

11.根據權利要求10所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述位于中部的光柵的周期可以大于所述位于兩邊的光柵的周期之差。

12.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準標記可以是位于同一平面內成正交布置的兩組成直線排列的三個不同周期的相位光柵。

13.根據權利要求12所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述成直線排列的三個不同周期的相位光柵的條紋垂直于所述三個光柵所成直線，位于中部的光柵的周期小于位于兩邊的光柵的周期。

14.根據權利要求13所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述位于中部的光柵的周期大于所述位于兩邊的光柵的周期之差。

15.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準標記可以是位于同一平面內的其他方式排列的包含三個不同周期的相位光柵。

16.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述透鏡組中可以加入空間濾波器。

17.根據權利要求16所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述空間濾波器僅允許三個周期的相位光柵的一級衍射信號通過。

18.根據權利要求17所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述空間濾波器可以是僅允許所述對準標記的光柵的一級衍射信號通過的孔徑光闌。

19.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準輻射源可以是只能發出一個波長的校準光束的輻射源。

20.根據權利要求4所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述對準輻射源可以是能發出兩個或兩個以上波長的校準光束的輻射源。

21.根據權利要求20所述的用于光刻設備的對準系統，其特征在于：所述能發出兩個或兩個以上波長的校準光束的輻射源可以是同一時刻只發出一個波長的校準光束的輻射源。