[發明專利]一種染料敏化納米晶太陽能電池及其制備方法無效
| 申請號: | 200710043706.6 | 申請日: | 2007-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN101101969A | 公開(公告)日: | 2008-01-09 |
| 發明(設計)人: | 陳國榮;徐華華;孫大林 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48;H01G9/20;H01M14/00 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 20043*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 染料 納米 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1、一種染料敏化納米晶太陽能電池,其特征在于以現有的染料敏化納米晶太陽能電池結構為基礎,其染料敏化層采用功能分子材料M-TCNQ,其中M為金屬Cu、Ag、K、Na、Mn、Mg、Ni或Li;TCNQ為7,7,8,8-四氰基對醌二甲烷。
2、根據權利要求1所述的染料敏化納米晶太陽能電池,其特征在于作為染料敏化層的M-TCNQ,為一種M-TCNQ,或者為一種以上的M-TCNQ的組合。
3、一種如權利要求1所述的染料敏化納米晶太陽能電池的制備方法,其特征在于為下述之一種:
①固態法:在納米TiO2上面用真空鍍膜法鍍一層Cu、Ag、K、Na、Mn、Mg、Ni或Li中的一種或幾種,或它們的碘化物,總厚度為10~1000納米,然后用真空鍍膜法鍍一層TCNQ,厚度為10~500納米,再在80-160℃溫度下進行10-60分鐘熱處理,即形成所需要的M-TCNQ染料敏化層;
②溶液法:在納米TiO2上面用真空鍍膜法鍍一層Cu、Ag、K、Na、Mn、Mg、Ni或Li中的一種或幾種,或它們的碘化物,總厚度為10~1000納米,然后與TCNQ的已腈飽和溶液接觸,溫度為10-60攝氏度,使之發生化學反應,生成所需要的M-TCNQ染料敏化層;
其余制備步驟與工藝與傳統的染料敏化納米晶太陽能電池相同。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





