[發明專利]一種光阻涂布和顯影設備

有效

• 申請號: 200710043682.4
• 申請日: 2007-07-11
• 公開（公告）號: CN101344733A
• 公開（公告）日: 2009-01-14
• 發明（設計）人: 程蒙
• 申請（專利權）人: 上海宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: G03F7/26
• 分類號: G03F7/26;H01L21/30
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種光阻涂布和顯影設備，包括機架、裝設在該機架上的主控模塊、電源模塊、光阻與晶圓附著力增強劑涂布模塊、光阻涂布模塊、烘烤模塊、冷卻模塊和顯影模塊，其中，該顯影模塊具有一用于傳送晶圓的傳送單元和用于掃描噴涂顯影液的噴涂單元，該傳送單元上連接有至少一真空吸管，該噴涂單元具有一進行掃描噴涂且與真空吸管相鄰的噴涂管路，其特征在于，該真空吸管的設置位置使該噴涂管路進行掃描噴涂時兩者不產生觸碰。

2.如權利要求1所述的光阻涂布和顯影設備，其特征在于，該噴涂管路向左進行掃描噴涂。

3.如權利要求2所述的光阻涂布和顯影設備，其特征在于，該真空吸管設置在該噴涂管路右側。

4.如權利要求2所述的光阻涂布和顯影設備，其特征在于，該真空吸管的數量為兩個。