[發(fā)明專利]一種光刻膠清洗劑無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710043555.4 | 申請(qǐng)日： | 2007-07-06 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101339368A | 公開（公告）日： | 2009-01-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 史永濤;彭洪修;曹慧英;劉兵;曾浩 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/42 | 分類號(hào)： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務(wù)所 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203上海市浦東新區(qū)張江高科*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 光刻 洗劑 | ||
1.一種光刻膠清洗劑，其特征在于含有：季銨氫氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亞砜和聚羧酸類緩蝕劑；烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子數(shù)目為3～18。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物為四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨或芐基三甲基氫氧化銨。
3.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物的含量為質(zhì)量百分比0.1～15％。
4.如權(quán)利要求3所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物的含量為質(zhì)量百分比0.5～10％。
5.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的水的含量為質(zhì)量百分比0.1～40％。
6.如權(quán)利要求5所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的水的含量為質(zhì)量百分比0.5～25％。
7.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚為丙二醇單苯基醚、異丙二醇單苯基醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單苯基醚、二異丙二醇單苯基醚、三乙二醇單苯基醚、三丙二醇單苯基醚、三異丙二醇單苯基醚、六縮乙二醇單苯基醚、六縮丙二醇單苯基醚、六縮異丙二醇單苯基醚、丙二醇單芐基醚、異丙二醇單芐基醚或己二醇單萘基醚。
8.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚的含量為質(zhì)量百分比1～50％。
9.如權(quán)利要求8所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚的含量為質(zhì)量百分比5～30％。
10.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含量為質(zhì)量百分比1～98％。
11.如權(quán)利要求10所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含量為質(zhì)量百分比50～90％。
12.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑為聚丙烯酸或其共聚物、聚甲基丙烯酸或其共聚物、聚丙烯酸醇胺鹽、聚甲基丙烯酸醇胺鹽、聚氧乙烯改性聚丙烯酸或其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基丙烯酸或其衍生物、聚環(huán)氧琥珀酸、聚天冬氨酸、含羧基的聚己內(nèi)酯或含羧基的聚丙交酯。
13.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑的含量為質(zhì)量百分比0.01～5％。
14.如權(quán)利要求13所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑的含量為質(zhì)量百分比0.05～2.5％。
15.如權(quán)利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的光刻膠清洗劑還含有極性有機(jī)共溶劑、表面活性劑和除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑中的一種或多種。
16.如權(quán)利要求15所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機(jī)共溶劑的含量為質(zhì)量百分比0～50％；所述的表面活性劑的含量為質(zhì)量百分比0～5％；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑的含量為質(zhì)量百分比0～10％。
17.如權(quán)利要求16所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機(jī)共溶劑的含量為質(zhì)量百分比5～30％；所述的表面活性劑的含量為質(zhì)量百分比0.05～3％；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑的含量為質(zhì)量百分比0.1～5％。
18.如權(quán)利要求15所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機(jī)共溶劑為亞砜、砜、咪唑烷酮、醇胺和烷基二醇單烷基醚中的一種或多種；烷基二醇單烷基醚中烷基二醇的碳原子數(shù)目為3～18；所述的表面活性劑為聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或聚氧乙烯醚；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑為醇胺類、唑類、羧酸類或膦酸類緩蝕劑。
19.如權(quán)利要求18所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的亞砜為二乙基亞砜或甲乙基亞砜。
20.如權(quán)利要求18所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的砜為甲基砜、乙基砜或環(huán)丁砜。
21.如權(quán)利要求18所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的咪唑烷酮為2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮。
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