[發明專利]一種光刻膠清洗劑

無效

• 申請號: 200710043555.4
• 申請日: 2007-07-06
• 公開（公告）號: CN101339368A
• 公開（公告）日: 2009-01-07
• 發明（設計）人: 史永濤;彭洪修;曹慧英;劉兵;曾浩
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所
• 代理人: 李佳銘

1.一種光刻膠清洗劑，其特征在于含有：季銨氫氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亞砜和聚羧酸類緩蝕劑；烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子數目為3～18。

2.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物為四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨或芐基三甲基氫氧化銨。

3.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物的含量為質量百分比0.1～15％。

4.如權利要求3所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的季銨氫氧化物的含量為質量百分比0.5～10％。

5.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的水的含量為質量百分比0.1～40％。

6.如權利要求5所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的水的含量為質量百分比0.5～25％。

7.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚為丙二醇單苯基醚、異丙二醇單苯基醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單苯基醚、二異丙二醇單苯基醚、三乙二醇單苯基醚、三丙二醇單苯基醚、三異丙二醇單苯基醚、六縮乙二醇單苯基醚、六縮丙二醇單苯基醚、六縮異丙二醇單苯基醚、丙二醇單芐基醚、異丙二醇單芐基醚或己二醇單萘基醚。

8.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚的含量為質量百分比1～50％。

9.如權利要求8所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚的含量為質量百分比5～30％。

10.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含量為質量百分比1～98％。

11.如權利要求10所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的二甲基亞砜的含量為質量百分比50～90％。

12.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑為聚丙烯酸或其共聚物、聚甲基丙烯酸或其共聚物、聚丙烯酸醇胺鹽、聚甲基丙烯酸醇胺鹽、聚氧乙烯改性聚丙烯酸或其衍生物、聚氧乙烯改性聚甲基丙烯酸或其衍生物、聚環氧琥珀酸、聚天冬氨酸、含羧基的聚己內酯或含羧基的聚丙交酯。

13.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑的含量為質量百分比0.01～5％。

14.如權利要求13所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的聚羧酸類緩蝕劑的含量為質量百分比0.05～2.5％。

15.如權利要求1所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的光刻膠清洗劑還含有極性有機共溶劑、表面活性劑和除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑中的一種或多種。

16.如權利要求15所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機共溶劑的含量為質量百分比0～50％；所述的表面活性劑的含量為質量百分比0～5％；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑的含量為質量百分比0～10％。

17.如權利要求16所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機共溶劑的含量為質量百分比5～30％；所述的表面活性劑的含量為質量百分比0.05～3％；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑的含量為質量百分比0.1～5％。

18.如權利要求15所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的極性有機共溶劑為亞砜、砜、咪唑烷酮、醇胺和烷基二醇單烷基醚中的一種或多種；烷基二醇單烷基醚中烷基二醇的碳原子數目為3～18；所述的表面活性劑為聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或聚氧乙烯醚；所述的除聚羧酸類以外的其它緩蝕劑為醇胺類、唑類、羧酸類或膦酸類緩蝕劑。

19.如權利要求18所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的亞砜為二乙基亞砜或甲乙基亞砜。

20.如權利要求18所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的砜為甲基砜、乙基砜或環丁砜。

21.如權利要求18所述的光刻膠清洗劑，其特征在于：所述的咪唑烷酮為2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮。