[發明專利]有機預涂金屬板上硅氧氟涂層的制備方法無效
| 申請號: | 200710043176.5 | 申請日: | 2007-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN101333652A | 公開(公告)日: | 2008-12-31 |
| 發明(設計)人: | 楊立紅;楊曉萍 | 申請(專利權)人: | 寶山鋼鐵股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/02;C23C16/52;C23C16/30 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 | 代理人: | 樓仙英 |
| 地址: | 20190*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 金屬板 上硅氧氟 涂層 制備 方法 | ||
1.一種有機預涂金屬板上硅氧氟涂層的制備方法,其特征在于,包括下列步驟:
a)在等離子體環境中對所述有機預涂金屬板進行表面清洗和表面活化;
b)使用等離子體增強化學氣相沉積方法,在有機預涂金屬板的有機涂層上沉積形成SixOyFz薄膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其中步驟a)產生等離子體的氣體是氧氣、氮氣、氫氣、氬氣中的任意一種或幾種氣體的組合。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法,其中所述表面活化的時間控制在0.5~200秒之間。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其中步驟b)所述等離子體增強化學氣相沉積方法包括:
-將含Si、O、F的一種或幾種前驅體通過加熱,以氬氣作為載氣,同時通入氧氣,在等離子發生器作用下形成等離子體,進行等離子化學氣相沉積。
5.根據權利要求1或4所述的方法,其中所述的步驟a)和/或b)在真空環境下進行,該真空環境的真空度范圍為1×10-6~1×10-2Pa。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





