[發明專利]氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法無效
| 申請號: | 200710042899.3 | 申請日: | 2007-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN101092490A | 公開(公告)日: | 2007-12-26 |
| 發明(設計)人: | 張大兵;武愛波;史西志 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | C08J9/26 | 分類號: | C08J9/26;C08F220/10;C08F2/44 |
| 代理公司: | 上海交達專利事務所 | 代理人: | 王錫麟;王桂忠 |
| 地址: | 200240*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氨芐青霉素 分子 印跡 聚合物 制備 方法 | ||
1.一種氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
1)配制濃度為3%~6%聚乙烯醇溶液;
2)然后將功能單體、模板分子、引發劑、致孔劑和交聯劑混合,超聲,加入步驟1)中聚乙烯醇溶液中,恒速攪拌24h;
3)反應結束后,70℃水中攪拌60min,過濾,超聲振蕩,依次用雙蒸水洗滌2次,甲醇洗滌3次,丙酮洗滌2次,每次10min,最后通過索氏萃取除去模板分子;
4)將去除模板分子后的聚合物,50℃溫度下真空干燥,得到氨芐青霉素分子印跡聚合物微球。
2.如權利要求1所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,步驟2)中,所述的功能單體,為甲基丙烯酸,或三氟甲基丙烯酸,或4一乙烯吡啶,或甲基丙烯酸N,N-二乙基氨基乙酯。
3.如權利要求1所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,步驟2)中,所述的致孔劑,為二甲亞砜與氯仿的混合溶液。
4.如權利要求3所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,所述的混合溶液,其體積比為:二甲亞砜∶氯仿=1∶1。
5.如權利要求1所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,步驟2)中,所述的交聯劑,為乙二醇二甲基丙烯酸酯,或三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯。
6.如權利要求1所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,步驟2)中,所述的超聲,其超聲時間為5min~10min。
7.如權利要求1所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,步驟2)中,所述的恒速攪拌,其條件是溫度控制在60℃~80℃之間。
8.如權利要求1或7所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,所述的恒速攪拌,其攪拌速度為400rpm~600rpm。
9.如權利要求1所述的氨芐青霉素分子印跡聚合物微球的制備方法,其特征是,所述的1)、2)、3)、4)四個步驟,是在保持氮氣氣氛條件下進行的。
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