[發明專利]一種光刻機的監測系統及光刻機的監測方法

有效

• 申請號: 200710041956.6
• 申請日: 2007-06-13
• 公開（公告）號: CN101324758A
• 公開（公告）日: 2008-12-17
• 發明（設計）人: 白蘭萍;敖松泉
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.一種光刻機的監測系統，該監測系統包括能量穩定性監測系統及焦點穩定性監測系統；

所述能量穩定性監測系統完成光刻機能量穩定性的監測、及關鍵線寬的量測；

所述焦點穩定性監測系統完成最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測；

所述能量穩定性監測系統及焦點穩定性監測系統均包括若干晶片；

其特征在于：

所述能量穩定性監測系統與所述焦點穩定性監測系統共用一組晶片；

所述共用的一組晶片中，部分晶片完成光刻機能量穩定性的監測、關鍵線寬的量測、最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測。

2.如權利要求1所述的監測系統，其特征在于，所述監測系統中的晶片包括共用晶片組及單用晶片組；

所述共用晶片組完成光刻機能量穩定性的監測、關鍵線寬的量測、最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測；

所述共用晶片組中晶片的數目對應于能量穩定性監測系統、焦點穩定性監測系統中所需晶片數目較少的一個；

所述單用晶片組屬于能量穩定性監測系統、焦點穩定性監測系統中所需晶片數目較多的一個。

3.如權利要求1或2所述的監測系統，其特征在于，所述能量穩定性監測系統中晶片數目與涂部機的顯影槽個數相對應。

4.如權利要求3所述的監測系統，其特征在于，所述能量穩定性監測系統中晶片數目為4個。

5.如權利要求1或2所述的監測系統，其特征在于，所述焦點穩定性監測系統中晶片數目與涂部機的涂膠槽個數相對應。

6.如權利要求5所述的監測系統，其特征在于，所述焦點穩定性監測系統中晶片數目為2個。

7.如權利要求6所述的監測系統，其特征在于，所述能量穩定性監測系統中晶片數目為4個；其中2個晶片為能量穩定性監測系統及焦點穩定性監測系統所共用，完成光刻機能量穩定性的監測、關鍵線寬的量測、最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測。

8.配備權利要求1所述監測系統的光刻機的監測方法，其特征在于，所述監測方法包括以下過程：

所述監測系統中的晶片監測光刻機能量的穩定性，同時監測最佳焦平面的穩定性；

所述監測系統中的晶片量測關鍵線寬，同時量測不同焦點對應的關鍵線寬；

共用的一組晶片中，部分晶片完成光刻機能量穩定性的監測、關鍵線寬的量測、最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測。

9.如權利要求8所述的監測方法，其特征在于，所述監測系統中的晶片包括共用晶片組及單用晶片組；

所述共用晶片組完成光刻機能量穩定性的監測、關鍵線寬的量測、最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測；

所述共用晶片組中晶片的數目對應于能量穩定性監測系統、焦點穩定性監測系統中晶片數目較少的一個；

所述單用晶片組屬于能量穩定性監測系統、焦點穩定性監測系統中晶片數目較多的一個。

10.如權利要求8或9所述的監測方法，其特征在于，所述能量穩定性監測系統中晶片數目與涂部機的顯影槽個數相對應。

11.如權利要求10所述的監測方法，其特征在于，所述能量穩定性監測系統中晶片數目為4個。

12.如權利要求8或9所述的監測方法，其特征在于，所述焦點穩定性監測系統中晶片數目與涂部機的涂膠槽個數相對應。

13.如權利要求12所述的監測方法，其特征在于，所述焦點穩定性監測系統中晶片數目為2個。

14.如權利要求13所述的監測方法，其特征在于，所述能量穩定性監測系統中晶片數目為4個；其中2個晶片為能量穩定性監測系統及焦點穩定性監測系統所共用，完成光刻機能量穩定性的監測、關鍵線寬的量測、最佳焦平面的穩定性監測、及不同焦點對應關鍵線寬的量測。