[發明專利]光催化自潔搪瓷的制備方法

無效

• 申請號: 200710041788.0
• 申請日: 2007-06-08
• 公開（公告）號: CN101067207A
• 公開（公告）日: 2007-11-07
• 發明（設計）人: 蔣偉忠;錢蕙春;王允夫;王瑛;王鋼;王紅玲;陳小英;陳麗蕓
• 申請（專利權）人: 東華大學
• 主分類號: C23D11/00
• 分類號: C23D11/00;C23D5/02;C23D9/00;C23D1/00;C23D7/00;B01J21/06;C03C8/12
• 代理公司: 上海泰能知識產權代理事務所
• 代理人: 黃志達;謝文凱

1.一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，包括下列步驟：

(1)根據面釉配方組成，將各種成分換算成石英，長石，硼砂，二氧化鈦，純堿，冰晶，稱量混合，放入坩堝中，在1200～1300℃下進行熔化，熔化好后投入水中淬冷，撈出烘干制得搪瓷熔塊；

(2)混合搪瓷熔塊、按粘土、電介質、和去離子水，球磨、研磨1～2個小時后，過篩烘干備用；

(3)取鋼板或鑄鐵，進行除銹和除油污處理，烘干，用浸搪方式對鋼板涂搪瓷釉，然后在80～100℃烘干，在840～860℃燒制得搪瓷基板；

(4)采用浸涂法，將搪瓷基板浸在二氧化鈦膠體溶液，垂直提拉后，80-100℃烘干30-40分鐘，350-450℃燒結1-2小時，制成具有二氧化鈦薄膜的搪瓷基板；

(5)重復(4)程序可以制得多層二氧化鈦薄膜的搪瓷基板。

2.根據權利要求1所述的一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，其特征在于：所述的面釉配方組成重量百分比為SiO₂?40.0～68.0，Al₂O₃?1.0～3.0，B₂O₃?15.0～20.0，TiO₂?16.0～20.0，K₂O?1.0～5.0，Na₂O?5.0～10.0，Na₂SiF₆?3.0～8.0。

3.根據權利要求1所述的一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，其特征在于：所述步驟(2)中，混合物配方：相對重量比為搪瓷熔塊100，按粘土5～7，電介質0.1～0.5，去離子水45～55。

4.根據權利要求1所述的一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，其特征在于：所述鋼板和鑄鐵的尺寸是任意的。

5.根據權利要求1所述的一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，其特征在于：所述的鋼板或鑄鐵進行除銹和除油污處理采用5～10％的HCl或H₂SO₄和8wt％的工業肥皂粉溶液。

6.根據權利要求1所述的一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，其特征在于：所述的二氧化鈦膠體溶液是指其化學組成范圍摩爾百分比為Ti(OC₄H₉)₄：1～3，C₂H₅OH：5～10，H₂O：1～5，HNO₃：0.1～0.5，Acetyl-acetone：0.1～1.0。

7.根據權利要求1所述的一種光催化自潔性能搪瓷制備方法，其特征在于：所述的二氧化鈦薄膜的搪瓷基板是指其化學組成范圍重量百分比為：SiO₂?40.0～48.0，Al₂O₃?1.0～3.0，B₂O₃?15.0～20.0，TiO₂?16.0～20.0，K₂O?1.0～5.0，Na₂O?5.0～10.0，Na₂SiF₆?3.0～8.0，P₂O₅?1.0～3.0的基板。