[發明專利]射頻功率源系統及使用該射頻功率源系統的等離子體反應腔室有效
| 申請號: | 200710039453.5 | 申請日: | 2007-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN101287327A | 公開(公告)日: | 2008-10-15 |
| 發明(設計)人: | 陳金元;尹志堯;錢學煜;倪圖強;飯塚浩 | 申請(專利權)人: | 中微半導體設備(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/46 | 分類號: | H05H1/46;H05H1/30 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人: | 王潔 |
| 地址: | 201201上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 射頻 功率 系統 使用 等離子體 反應 | ||
1.?一種射頻功率源系統,包括:
輸出具有N個頻率的N個射頻信號的射頻源,其中N是大于1的整數;
合成該N個射頻信號的射頻功率合成器,以輸出一個合成的射頻信號;
放大該合成的射頻信號的寬帶放大器,以提供一個經過放大的射頻信號;
接收該經過放大的射頻信號的射頻功率分離器,以提供具有N個頻率的N個經過放大的射頻功率信號。
2.?如權利要求1所述的射頻功率源系統,進一步包括匹配電路,用以接收該N個經過放大的射頻功率信號,并將該N個經過放大的射頻功率信號加載到一等離子體反應腔室上。
3.?如權利要求1所述的射頻功率源系統,其特征在于:所述射頻源包括至少一個振蕩器。
4.?如權利要求1所述的射頻功率源系統,其特征在于:所述射頻源包括至少一個頻率合成器。
5.?如權利要求1所述的射頻功率源系統,其特征在于:所述射頻源進一步包括至少一個倍頻器或分頻器。
6.?如權利要求2所述的射頻功率源系統,進一步包括至少一個切換開關,可將N個頻率中的預先設定的兩個頻率中的某一個選擇性地耦合到匹配電路。
7.?如權利要求2所述的射頻功率源系統,其特征在于:所述匹配電路包括若干個匹配網絡,每一個匹配網絡設置為接收N個頻率中的一個。
8.?如權利要求2所述的射頻功率源系統,其特征在于:N為2,且所述匹配電路包括至少一個匹配網絡,設置為可切換地接收所述兩個頻率中的一個。
9.?如權利要求6所述的射頻功率源系統,進一步包括一個并聯電容,與該切換開關的輸入端相連接。
10.?一種射頻功率源系統,包括:
第一射頻源,輸出具有第一頻率的第一射頻信號;
第二射頻源,輸出具有第二頻率的第二射頻信號;
射頻功率合成器,將第一和第二射頻信號合成,輸出一個合成的射頻信號;
寬帶放大器,用以放大該合成的射頻信號,以提供一個經過放大的信號;
射頻功率分離器,用以接收該經過放大的信號,并提供第一放大射頻功率和第二放大射頻功率;
匹配電路,用以接收該第一放大射頻功率和該第二放大射頻功率。
11.?如權利要求10所述的射頻功率源,其特征在于:所述匹配電路包括一個接收第一放大射頻功率的第一匹配網絡,和一個接收第二放大射頻功率的第二匹配網絡。
12.?如權利要求10所述的射頻功率源,其特征在于:所述射頻功率分離器包括至少一個濾波器。
13.?如權利要求10所述的射頻功率源,其特征在于:所述射頻功率分離器包括至少一個低通濾波器和一個帶通濾波器。
14.?如權利要求10所述的射頻源,其特征在于:所述第一射頻源包括一個頻率合成器。
15.?如權利要求14所述的射頻源,其特征在于:所述第二射頻源包括一個倍頻器或分頻器。
16.?如權利要求10所述的射頻源,進一步包括用以控制激勵所述第一射頻源和第二射頻源的控制器。
17.?如權利要求10所述的射頻功率源,進一步包括至少一個切換開關與該射頻功率分離器相連接,該切換開關具有一輸入端接收該經過放大的信號,并且還包括至少一個并聯電容與該輸入端連接。
18.?一種等離子體反應腔室,包括:
真空反應腔室,用來在其中產生等離子體;
射頻功率源,可提供頻率為f1的射頻功率;
射頻源,可以輸出具有N個不同頻率的N個射頻信號,其中N是大于1的整數;
合成該N個射頻信號的射頻功率合成器,以輸出一個合成的射頻信號;
放大該合成的射頻信號的寬帶放大器,以提供一個經過放大的射頻信號;
接收該經過放大的射頻信號的射頻功率分離器,以提供具有N個頻率的N個經過放大的射頻功率信號;
匹配電路,用以將該頻率f1以及該N個頻率中的至少一個頻率的射頻功率耦合到該真空反應腔室中。
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