[發(fā)明專利]顯影工藝改善方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710039420.0
• 申請(qǐng)日: 2007-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN101286014A
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程蒙;陳進(jìn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所
• 代理人: 余明偉

1、?一種顯影工藝改善方法，其特征在于包括下列步驟：

(a)提供一顯影液噴灑臂，其上具至少一噴嘴以噴灑一顯影液于一芯片上；

(b)隨著該顯影液的上升，控制該噴嘴上移以與該顯影液的液面間的距離在1毫米至2毫米之間；

(c)利用一去離子水清洗該噴嘴。

2、?根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影工藝改善方法，其特征在于：該噴嘴以每秒70-80毫米的移動(dòng)速度于該芯片上方噴灑該顯影液。

3、?根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影工藝改善方法，其特征在于：該噴嘴對(duì)于該芯片的噴灑的次數(shù)為1次或2次或3次。

4、?根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影工藝改善方法，其特征在于：所述步驟(c)的去離子水清洗該噴嘴的時(shí)間至少5秒。

5、?根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影工藝改善方法，其特征在于：該顯影液是強(qiáng)堿溶液。