[發明專利]一種改進型拋光墊調節器工藝有效
| 申請號： | 200710039196.5 | 申請日： | 2007-04-06 |
| 公開（公告）號： | CN101279435A | 公開（公告）日： | 2008-10-08 |
| 發明（設計）人： | 王莉;趙鐵軍 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | B24B29/00 | 分類號： | B24B29/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人： | 王潔 |
| 地址： | 2012*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 改進型 拋光 調節器 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.?一種改進型拋光墊調節器工藝，其特征在于，所述工藝先采用高壓水或拋光液沖洗和修整拋光墊表面以去除拋光液結晶，然后在低壓條件下執行主拋光工序。
2.?如權利要求1所述的改進型拋光墊調節器工藝，其特征在于：于高壓沖洗和修整步驟中，拋光墊調節器的初始位置距離拋光墊中心1.4～1.6英寸。
3.?如權利要求2所述的改進型拋光墊調節器工藝，其特征在于：于高壓沖洗和修整步驟中，拋光墊調節器的初始位置距離拋光墊中心1.4英寸。
4.?如權利要求1所述的改進型拋光墊調節器工藝，其特征在于：所述主拋光工序采用的拋光墊調節器壓力小于高壓沖洗和修整步驟中的壓力。
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