[發明專利]一種檢驗刻蝕液是否有效的方法

有效

• 申請號: 200710039194.6
• 申請日: 2007-04-06
• 公開（公告）號: CN101281374A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 魏廣升
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/66
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 王潔

1.?一種檢驗刻蝕液是否有效的方法，該方法包括以下步驟：(1)提供一用于浸沒在刻蝕液中與該刻蝕液發生反應的測試晶圓，其中，該測試晶圓上具有一測試層，且該測試層上具有一自然氧化層；(2)測量該測試晶圓的厚度或方塊電阻；(3)將該測試晶圓浸沒在刻蝕液中進行一預定刻蝕時間的刻蝕；(4)測量該測試晶圓被刻蝕后的厚度或方塊電阻；(5)計算出該測試晶圓厚度或方塊電阻的改變量，并依據該改變量以及預定刻蝕時間計算出刻蝕速率；(6)判斷該刻蝕速率是否在容許范圍內并依據判斷結果判定刻蝕液是否有效；其特征在于，該方法在進行步驟(2)前先去除該自然氧化層。

2.?如權利要求1所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，在步驟(6)中，當該刻蝕速率在容許范圍內時判定該刻蝕液有效，當該刻蝕速率不在容許范圍內時判定該刻蝕液失效。

3.?如權利要求1所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，通過清洗液清洗來去除該自然氧化層。

4.?如權利要求3所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，清洗溫度范圍為20至50攝氏度。

5.?如權利要求3所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，該清洗液為1號標準清洗液。

6.?如權利要求5所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，該1號標準清洗液中氨水、雙氧水和水的配比范圍為1∶1∶1至1∶1∶8。

7.?如權利要求1所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，該測試層為金屬硅化物層。

8.?如權利要求7所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，該金屬硅化物層的厚度范圍為200埃800埃。

9.?如權利要求1所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，在步驟(3)中，該測試晶圓經一預定刻蝕時間的刻蝕后，其上還具有測試層。

10.?如權利要求1所述的檢驗刻蝕液是否有效的方法，其特征在于，該預定刻蝕時間范圍為1分鐘至20分鐘。