[發明專利]用疊層光刻膠犧牲層制備MEMS懸空結構的方法無效
| 申請號： | 200710039017.8 | 申請日： | 2007-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN101030033A | 公開（公告）日： | 2007-09-05 |
| 發明（設計）人： | 張永華;劉蕾;歐陽煒霞;賴宗聲 | 申請（專利權）人： | 華東師范大學 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;B81B7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 上海德昭知識產權代理有限公司 | 代理人： | 程宗德;石昭 |
| 地址： | 200062*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用疊層 光刻 犧牲 制備 mems 懸空 結構 方法 | ||
【說明書】：
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