[發明專利]二維光子晶體自準直馬赫－曾特爾干涉儀及其設計方法

無效

• 申請號: 200710037990.6
• 申請日: 2007-03-12
• 公開（公告）號: CN101266337A
• 公開（公告）日: 2008-09-17
• 發明（設計）人: 蔣尋涯;趙德印;陳曦耀;張潔;姚培軍
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海微系統與信息技術研究所
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G01B9/02
• 代理公司: 上海光華專利事務所
• 代理人: 鄭瑋;余明偉

1.?一種二維光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀的設計方法，包括如下步驟：

步驟1、選定材料，確定材料折射率，選擇正方晶格光子晶體的類型，確定結構參數；

步驟2、利用平面波展開法計算該結構的等頻圖，得到具有自準直現象的電磁波模式；其特征在于，還包括：

步驟3、在光子晶體引入線缺陷作為分束器和全反射鏡，構成光子晶體馬赫-曾特爾干涉儀；

2.?根據權利要求1所述的二維光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀的設計方法，其特征在于，還包括：

步驟4、利用有限時域差分方法數值分析該干涉儀的工作原理，給出其數學模型。

3.?根據權利要求1所述的光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀的設計方法，其特征在于，所述的引入線缺陷作為分束器是指：改變一排介質柱或空氣孔，該介質柱或空氣孔的排列方向為與X軸夾角為45度的方向。

4.?根據權利要求3所述的光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀的設計方法，其特征在于，所述的改變介質柱或空氣孔是指改變一排介質柱或空氣孔的半徑或折射率，使其不同于主體介質柱或空氣孔。

5.?根據權利要求1所述的光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀的設計方法，其特征在于，所述的引入線缺陷作為全反射鏡是指：在與X軸夾角為45度的方向上挖去一排或多排介質柱或空氣柱。

6.?根據權利要求1或3所述的光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀的設計方法，其特征在于，所述的分束器的分束比之和為1。

7.?一種光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀，包括光子晶體、分束器和全反射鏡，其特征在于，所述的分束器和全反射鏡均為光子晶體內的線缺陷且光束在晶體內自準直傳播。

8.?根據權利要求7所述的光子晶體自準直馬赫-曾特爾干涉儀，其特征在于，所述的干涉儀利用非線性效應還可以用作光強探測器和光開關。