[發(fā)明專利]復(fù)合納濾膜的制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710037400.X | 申請(qǐng)日： | 2007-02-09 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101053780A | 公開（公告）日： | 2007-10-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 方建慧;劉達(dá);施利毅;曹志源;沈霞 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | B01D69/12 | 分類號(hào)： | B01D69/12;B01D71/68;B01D71/82 |
| 代理公司： | 上海上大專利事務(wù)所 | 代理人： | 顧勇華 |
| 地址： | 200444*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 復(fù)合 濾膜 制備 方法 | ||
1.一種復(fù)合納濾膜的制備方法，其特征在于：利用層層靜電自組裝技術(shù)，通過聚電解質(zhì)的聚陰離子和聚陽(yáng)離子在基膜表面交替沉積，得到具有離子截留性能的超薄分離層的復(fù)合納濾膜；該復(fù)合納濾膜的具體制備步驟如下：
a.基膜的前處理：用純水將基膜清洗干凈，并將其置于純水中浸泡5～10小時(shí)，中間每隔1～2小時(shí)換水一次；采用的基膜為聚醚砜超濾膜或聚砜超濾膜；
b.基膜的聚陰離子溶液處理：將上述經(jīng)處理的基膜浸入濃度為0.01～0.1mol/L的聚苯乙烯磺酸鈉溶液，該溶液含有0.5～1.0mol/L的NaCl，其pH值為2～3，浸漬20分鐘，隨后用純水洗滌，之后再浸泡20分鐘；或者將上述經(jīng)過處理的基膜浸入濃度為0.01～0.1mol/L的聚丙烯酸鈉溶液中，該溶液含有0.5～1.0mol/L的NaCl，其pH值為4～5，浸漬20分鐘，隨后用純水洗滌，之后再浸泡20分鐘；
c.基膜的聚陽(yáng)離子溶液處理：將上述經(jīng)聚陰離子溶液處理的基膜再進(jìn)行聚陽(yáng)離子溶液處理；將其膜浸入濃度為0.01～0.1mol/L的聚二稀丙基二甲基氯化銨溶液中，該溶液含有0.5～1.0mol/L的NaCl，其pH值為5～6，浸漬20分鐘，隨后用純水洗滌，之后再浸泡20分鐘；或者將上述經(jīng)聚陰離子溶液處理的基膜浸入濃度為0.01～0.1mol/L的聚烯丙基氯化銨溶液中，該溶液含有0.5～1.0mol/L的NaCl，其pH值為2～3，浸漬20分鐘，隨后用純水洗滌，之后再浸泡20分鐘；
d.重復(fù)交替進(jìn)行上述聚陰離子溶液處理和聚陽(yáng)離子溶液處理過程，直至得到11層聚陰離子膜層和10層聚陽(yáng)離子膜層交得組成的聚電解質(zhì)多層膜，再在純水中浸泡24小時(shí)后，即制得復(fù)合納濾膜。
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