[發(fā)明專利]一種測(cè)量粒子粒徑的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710036728.X | 申請(qǐng)日: | 2007-01-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101231161A | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳志軍;田志松;黃成杰;李理光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 同濟(jì)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01B11/10 | 分類號(hào): | G01B11/10;G06T7/00 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人: | 吳林松 |
| 地址: | 20009*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 測(cè)量 粒子 粒徑 方法 | ||
1.一種測(cè)量粒子粒徑的方法,其特征在于:使用用于灰度統(tǒng)計(jì)判別查詢的粒子圖像速度場(chǎng)儀成像系統(tǒng)拍攝流場(chǎng)粒子圖像,并利用粒子圖像灰度差異測(cè)量粒徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)量粒子粒徑的方法,其特征在于:利用用于灰度統(tǒng)計(jì)判別查詢的粒子圖像速度場(chǎng)儀成像系統(tǒng)獲得流場(chǎng)經(jīng)兩次曝光形成的具有灰度差異的粒子圖像,經(jīng)圖像處理技術(shù)預(yù)處理后,實(shí)現(xiàn)同一粒子兩次曝光對(duì)應(yīng)兩粒子像點(diǎn)的配對(duì),由兩粒子像點(diǎn)的灰度總和經(jīng)粒徑求解公式得到粒子粒徑大小,從而獲得整個(gè)流場(chǎng)的粒子粒徑信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測(cè)量粒子粒徑的方法,其特征在于:包括:
(1)設(shè)定半導(dǎo)體泵浦連續(xù)激光器發(fā)射的激光的波長(zhǎng)λ、所用相機(jī)鏡頭前加裝的孔板的正方形小孔的邊長(zhǎng)b′、相機(jī)鏡頭至激光光路的垂直距離d1、激光光路與相機(jī)鏡頭軸線夾角θ0、激光片光脈沖寬度即相機(jī)兩次曝光時(shí)間t1和t2;相機(jī)快門開啟的持續(xù)時(shí)間T以及決定激光片光脈沖光強(qiáng)I的激光器輸出功率P;并將各個(gè)參數(shù)輸入計(jì)算機(jī);
(2)使用用于灰度統(tǒng)計(jì)判別查詢的粒子圖像速度場(chǎng)儀成像系統(tǒng)先后發(fā)射兩束具有相同光強(qiáng)不同脈寬的激光片光脈沖照明待測(cè)流場(chǎng),相機(jī)伴隨激光脈沖進(jìn)行兩次曝光,獲得一幅具有灰度差異的雙曝光粒子圖像,輸入計(jì)算機(jī);
(3)針對(duì)不同流場(chǎng)特性采用合適的平滑和去噪等數(shù)字圖像處理技術(shù)對(duì)粒子圖像作預(yù)處理,去除圖像中的背景和其它噪聲影響,改善圖像質(zhì)量;
(4)對(duì)粒子圖像作邊緣檢測(cè),區(qū)分出圖像上的各個(gè)不同粒子像點(diǎn),同時(shí)獲得粒子像點(diǎn)的位置信息x和y和面積大小S;再結(jié)合預(yù)處理后粒子圖像獲得各個(gè)粒子像點(diǎn)對(duì)應(yīng)的灰度總和信息G;
(5)將粒子圖像劃分成一定大小的查詢小區(qū)域,以相同大小、相同灰度的粒子像點(diǎn)替換小區(qū)域內(nèi)原有各粒子像點(diǎn),對(duì)替換后的小區(qū)域作二維快速傅立葉變換,由變換獲得的自相關(guān)峰值計(jì)算區(qū)域相對(duì)位移,結(jié)合小區(qū)域內(nèi)各粒子兩次曝光粒子像點(diǎn)灰度總和的比值與激光片光脈沖寬度比值的內(nèi)在聯(lián)系等條件實(shí)現(xiàn)同一粒子兩次曝光對(duì)應(yīng)不同灰度粒子像點(diǎn)的配對(duì);
(6)通過前述獲得的粒子圖像速度場(chǎng)儀成像系統(tǒng)的各個(gè)參數(shù),利用公式(a),求得粒徑求解系數(shù)k,根據(jù)粒子圖像上各粒子成對(duì)兩粒子像點(diǎn)的不同灰度信息利用基于灰度差異判別的粒度求解公式(b)即可獲得各個(gè)粒子的粒徑信息;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于同濟(jì)大學(xué),未經(jīng)同濟(jì)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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