[發(fā)明專利]還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710035131.3 | 申請(qǐng)日： | 2007-06-14 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101101172A | 公開（公告）日： | 2008-01-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 聶岳軍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 湖南華聯(lián)瓷業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | F27B9/36 | 分類號(hào)： | F27B9/36;F23D14/84;C04B35/64 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 412200湖南*** | 國(guó)省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 還原 隧道窯 低溫 氧化 燃燒室 溫度 均勻 方法 裝置 | ||
1、還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻方法，其特征在于：在燒咀的出口設(shè)置溫度均勻燃燒室，使得燃?xì)馔ㄟ^(guò)燒咀噴入進(jìn)入燃燒室燃燒后，燃燒產(chǎn)物在經(jīng)過(guò)均勻分流后再進(jìn)入窯內(nèi)通道。
2、一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻方法的裝置，包括窯爐和燒咀，且燒咀是通過(guò)窯爐的側(cè)面進(jìn)入窯爐內(nèi)的，其特征在于：在窯爐的側(cè)面的燃?xì)馊肟谔巸?nèi)面，燒咀的出口處設(shè)有擴(kuò)散燒咀火焰，保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通道的燃燒室。
3、如權(quán)利要求1所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于：所述的燃燒室的底面正對(duì)窯車臺(tái)面，燒咀中心正對(duì)下火道的中下部。
4、如權(quán)利要求2所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于：所述的燃燒室的燒咀選用燃?xì)馄窖鏌?，火焰長(zhǎng)度0.3～0.9m。
5、如權(quán)利要求2所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于：所述的燃燒室的截面尺寸必需保證以燒咀為中心，直徑為300mm的火焰有足夠的燃燒空間；燃燒室的出口的張角取45°。燃燒室是直徑為350mm～560mm的半圓拱，長(zhǎng)度200mm～350mm；燃燒室的大小取決于所選取的燃燒室空間熱強(qiáng)度。
6、如權(quán)利要求2所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于：為保證火焰在燃燒室充分燃燒后合理的進(jìn)入窯內(nèi)通道，在燃燒室出口設(shè)置分流裝置。
7、如權(quán)利要求6所述的日用瓷氣燒還原焰隧道窯低溫氧化區(qū)燃燒室溫度均勻結(jié)構(gòu)裝置，其特征在于：所述的分流裝置是由耐火磚在燃燒室內(nèi)燒咀的前面設(shè)置擋塊形成的。
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