[發(fā)明專利]側(cè)入直下式背光模組無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710029880.5 | 申請日: | 2007-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN101109869A | 公開(公告)日: | 2008-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王鋼;羅睿宏 | 申請(專利權(quán))人: | 中山大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利代理有限公司 | 代理人: | 禹小明 |
| 地址: | 510275廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 側(cè)入直下式 背光 模組 | ||
1.一種側(cè)入直下式背光模組,其特征在于包括側(cè)入光源(1)、側(cè)入直下轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)(3)和擴散板(4),側(cè)入光源(1)位于側(cè)入直下轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)端,擴散板(4)位于側(cè)入直下轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)(3)上端。
2.如權(quán)利要求1所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述側(cè)入光源(1)為激光光源,側(cè)入光源(1)與側(cè)入直下轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)(3)之間設(shè)有混光器(6)。
3.如權(quán)利要求1所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述側(cè)入光源(1)為非激光光源,側(cè)入光源(1)與側(cè)入直下轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)(3)之間設(shè)有光耦合器(2)。
4.如權(quán)利要求1所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述側(cè)入直下轉(zhuǎn)換結(jié)構(gòu)(3)由一定數(shù)量的光纖或透反鏡(31)組成。
5.如權(quán)利要求4所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述光纖為側(cè)面發(fā)光光纖(32)或?qū)Ч夤饫w(33)。
6.如權(quán)利要求5所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述側(cè)面發(fā)光光纖(32)是指側(cè)面能發(fā)出均勻光線的光纖,所述透反鏡(31)是指能反射部分光線并透過剩余光線的鏡面。
7.如權(quán)利要求4所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述透反鏡(31)與擴散板(4)之間還設(shè)有擴散物(5)。
8.如權(quán)利要求7所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述擴散物(5)為透鏡或散射鏡面。
9.如權(quán)利要求1所述的側(cè)入直下式背光模組,其特征在于所述側(cè)入光源(1)為單邊入射或多邊入射。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





