[發(fā)明專利]一種便于制造的壓敏電阻器及其制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710029518.8
• 申請(qǐng)日: 2007-07-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101105992A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-01-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王學(xué)釗;尹峰;周水明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州新萊福磁電有限公司
• 主分類號(hào): H01C7/10
• 分類號(hào): H01C7/10;H01C17/00
• 代理公司: 廣州市華學(xué)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 楊曉松

1.一種便于制造的壓敏電阻器，包括環(huán)形電阻基體、金屬電極，其特征在于：所述環(huán)形電阻基體的端面或/和側(cè)面設(shè)置有凹槽，所述金屬電極設(shè)置于凹槽之間的環(huán)形電阻基體的端面或/和側(cè)面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便于制造的壓敏電阻器，其特征在于：所述環(huán)形電阻基體的外側(cè)面沿軸向設(shè)置有凹槽，所述金屬電極設(shè)置于凹槽之間的環(huán)形電阻基體的外側(cè)表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的便于制造的壓敏電阻器，其特征在于：所述環(huán)形電阻基體上凹槽的數(shù)量為3個(gè)或者3個(gè)以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的便于制造的壓敏電阻器，其特征在于：所述環(huán)形電阻基體上凹槽沿周向?qū)ΨQ或非對(duì)稱設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的便于制造的壓敏電阻器，其特征在于：所述凹槽的截面形狀是圓弧形、梯形、方形、三角形或者不規(guī)則形狀。

6.一種壓敏電阻器的制備方法，其特征在于包括下述步驟：

(1)加工環(huán)形電阻基體；

(2)在環(huán)形電阻基體的端面或/和側(cè)面加工出凹槽；

(3)在相鄰凹槽之間的環(huán)形電阻基體的端面或/和側(cè)面覆蓋金屬電極。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓敏電阻器的制備方法，其特征在于：步驟(1)、(2)同時(shí)操作完成，在形成環(huán)形電阻基體的同時(shí)在環(huán)形電阻基體的端面或/和側(cè)面加工出凹槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓敏電阻器的制備方法，其特征在于：步驟(1)、(2)采用于粉壓制成型、擠膜沖壓成型或者是注射成型工藝。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓敏電阻器的制備方法，其特征在于：步驟(3)中，所述覆蓋金屬電極的操作方式采用絲網(wǎng)印刷、涂覆、化學(xué)鍍、電鍍或?yàn)R射工藝中的一種或多種。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的壓敏電阻器的制備方法，其特征在于：步驟(3)中，所述覆蓋金屬電極的操作重復(fù)多次，形成所需厚度的金屬電極。