[發(fā)明專利]金屬碳化物/類金剛石(MeC/DLC)納米多層膜材料及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710028834.3
• 申請(qǐng)日: 2007-06-26
• 公開（公告）號(hào): CN101081557A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林松盛;代明江;李洪武;朱霞高;侯惠君;林凱生
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州有色金屬研究院
• 主分類號(hào): B32B33/00
• 分類號(hào): B32B33/00;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/35;C23C14/48
• 代理公司: 廣東世紀(jì)專利事務(wù)所
• 代理人: 千知化

1、一種金屬碳化物/類金剛石納米多層膜材料，其特征是依此由基材 (1)、過渡層I和納米多層膜層II構(gòu)成，過渡層I由金屬層(2)、金屬氮化物 層(3)和金屬碳氮化物層(4)構(gòu)成，納米多層膜層II由交替的金屬碳化物層(5) 和類金剛石層(6)構(gòu)成。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬碳化物/類金剛石納米多層膜材料，其 特征是所述的基材(1)為鋼鐵、鈦合金或硬質(zhì)合金。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬碳化物/類金剛石納米多層膜材料，其 特征是所述的金屬為Ti、Cr、Zr或W。

4、一種權(quán)利要求1所述的金屬碳化物/類金剛石納米多層膜材料的制 備方法，其特征是采用Ti、Cr、Zr或W靶，在本底真空：5.0×10^-3Pa，溫 度：150℃，工件架轉(zhuǎn)速：2～10rpm條件下，依次包括以下步驟：

①離子源轟擊清洗基材：爐內(nèi)壓強(qiáng)：0.2～1.0Pa，Ar氣流量：150sccm， 離子源：2kw，偏壓：50～1000V，時(shí)間：30min；

②制備金屬層：爐內(nèi)壓強(qiáng)：0.2～0.4Pa，Ar氣流量：150sccm，磁控功 率：2.0～10kw，離子源：0.5kw，偏壓：50～150V，時(shí)間：5～15min；

③制備金屬氮化物層：爐內(nèi)壓強(qiáng)：0.3～0.6Pa，Ar氣流量：120～150sccm， N₂：40～50sccm，磁控功率：5.0～10kw，離子源：0.5kw，偏壓：50～150V， 時(shí)間：15～30min；

④制備金屬碳氮化物層：爐內(nèi)壓強(qiáng)：0.4～0.8Pa，Ar氣流量：100～150 sccm，CH₄或C₂H₂氣流量：30～50sccm，N₂：5～30sccm，磁控功率：5.0～6.0 kw，離子源：0.5kw，偏壓：50～150V，時(shí)間：15～30min；

⑤制備金屬碳化物和類金剛石層：爐內(nèi)壓強(qiáng)：0.6～1.0Pa，Ar氣流量： 100sccm，CH₄或C₂H₂氣流量：50～150sccm，磁控功率：1.0～3.0kw，離 子源：2kw，偏壓：50～150V，時(shí)間：100～150min。