[發明專利]平板顯示器玻璃蝕刻液

有效

• 申請號: 200710027930.6
• 申請日: 2007-05-09
• 公開（公告）號: CN101054265A
• 公開（公告）日: 2007-10-17
• 發明（設計）人: 鐘平洪;蔡漢業;鄭資來;潘俊鋒
• 申請（專利權）人: 信利半導體有限公司
• 主分類號: C03C15/02
• 分類號: C03C15/02;C03C15/00
• 代理公司: 廣州知友專利商標代理有限公司
• 代理人: 宣國華

技術領域

本發明涉及一種玻璃蝕刻液，尤其是涉及一種應用于平板顯示器FPD中的顯示屏(包括TN、STN、CSTN、TFT、TP、OLED等)玻璃基板薄化的玻璃蝕刻液。

背景技術

液晶顯示屏目前通常的減薄方法有兩種，一為物理拋光研磨，一為化學蝕刻，其中化學薄化玻璃有以下幾個特點：

1.薄化時間短；

2.薄化產量較高；

3.成分簡單，配制比較容易。

目前，有進行FPD玻璃減薄的廠家，大部分是以氫氟酸為主要原料，且有些僅使用單一氫氟酸溶液，這種做法存在以下缺點：1，直接接觸氫氟酸，毒性高，且該藥液易產生氫氟酸氣體，生產過程中特別是配制時危險性高，如果輔以加熱，則危險性更高；2，蝕刻過程產生白色難溶物，容易懸浮在蝕刻液中及粘附于管道槽壁，難于處理。而且該難溶物吸附性較強，容易粘附在FPD玻璃表面，對FPD玻璃外觀良品率以及后處理造成了很大的影響；3，生產過程中速率不穩定且利用率較低；4.由于利用率低，廢液處理困難，與之相配套的廢液處理成本較高。

隨著薄化FPD市場發展越來越大，FPD玻璃的減薄將有越來越多的企業加入，氫氟酸用量的增加將加大對環境的傷害，這一技術應盡早淘汰，使用安全有效的新技術將成為FPD玻璃薄化的趨勢。

發明內容

本發明的目的在于能為FPD玻璃蝕刻提供安全、穩定、高效的生產環境，同時較好的處理蝕刻難溶物問題以及提高良品率的玻璃蝕刻液。

本發明的目的可以通過以下技術措施來實現：一種玻璃蝕刻液，包含以下按重量份數計的組成成分：

氟化氫銨9～15份?強酸50～59份?純水22～26份。

本發明所述的強酸為45％～60％硫酸。

本發明所述的強酸為硫酸和鹽酸，其中45％～60％硫酸36～41份，36％～37％鹽酸14～18份。

本發明所述的強酸為硫酸和硝酸，其中45％～60％硫酸44～52份，30％～35％硝酸6～7份。

本發明所述的強酸為硫酸、鹽酸和硝酸，其中45％～60％硫酸33～37份，36％～37％鹽酸12～15份，30％～35％硝酸5～7份。

本發明與現有技術相比，具有以下的優點和效果：

1)毒性小、無污染：本發明的溶液配方原料相對與HF酸溶液，毒性低很多，氟化氫銨為固體、硫酸及硝酸溶液濃度較小、鹽酸毒性低，都是危險性低、易處理，配制成溶液后，無揮發問題，藥液安全性較好；人員不小心接觸后經過水沖洗和涂搽葡萄糖酸鈣等簡單處理后即可；

2)蝕刻速率快、利用率高：本發明的溶液配方相對HF酸溶液，蝕刻速度提高了1～2微米/分鐘，最高可達到6.5微米/分鐘；藥液利用率提高了60～80％；從利用率計算，廢酸處理的量亦下降了50％左右，不但提高了效率，成本也大大地降低；

3)改善了蝕刻難溶物問題以及提高了良品率：本發明的配方和FPD玻璃反應生成了不同于氫氟酸和FPD玻璃反應生成的物質，該難溶物量少并不帶有吸附性，易沉淀，蝕刻液始終為澄清狀態，優于氫氟酸蝕刻液使用后的渾濁狀態；沉淀為糊狀物，不具吸附性也不易結塊，極易沖洗；

綜上所述，本發明的蝕刻液是比氫氟酸蝕刻液更為先進的一種玻璃薄化配方，無論從安全性、環境污染、穩定性、速率、良率來看各方面都優于氫氟酸蝕刻液的先進配方，是未來FPD玻璃薄化的新型工藝用料。

具體實施方式

實例1

將按重量份稱取的氟化氫銨10份、55％硫酸55份、純水24份倒入容器中，攪拌均勻后即得蝕刻液。

實例2

將按重量份稱取的氟化氫銨14份、60％硫酸38份、37％鹽酸15份、純水23份倒入容器中，攪拌均勻后即得蝕刻液。

實例3

將按重量份稱取的氟化氫銨10份、55％硫酸48份、30％硝酸6份、純水23份倒入容器中，室溫攪拌均勻后即得蝕刻液。

實例4

將按重量份稱取的氟化氫銨12份、50％硫酸39份、37％鹽酸17份、純水25份倒入容器中，攪拌均勻后即得蝕刻液。

實例5

將按重量份稱取的氟化氫銨15份、45％硫酸35份，36％鹽酸13份，32％硝酸5份倒入容器中，攪拌均勻后即得蝕刻液。

本發明玻璃蝕刻液將厚度為1.000mm的TFT(薄膜晶體管)玻璃減薄為0.800mm的過程如下：